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公开(公告)号：CN117187766A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311221943.2
申请日：2023-09-21
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明公开了一种高温抗氧化的高熵氮化物薄膜及其制备、应用，高熵氮化物薄膜包括Nb、Mo、Ta、W、Al、N，其中Nb、Mo、Ta、W元素的原子百分比为2：2：1：1，Al元素的掺杂量为高熵氮化物薄膜原子总数的0‑30%，氮元素的含量为高熵氮化物薄膜原子总数的40‑45%，并通过磁控共溅射的方法在基片上沉积具有不同Al含量的高熵氮化物薄膜。本发明采用上述的一种高温抗氧化的高熵氮化物薄膜及其制备、应用，适量Al的加入不仅保留了薄膜的本征硬度，还提高了薄膜的高温抗氧化能力。
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