公开(公告)号：CN1527076A

公开(公告)日：2004-09-08

申请号：CN03127171.5

申请日：2003-09-22

Applicant: 吉林大学

Inventor： 张大明 ,  崔占臣 ,  赵禹 ,  王菲 ,  马春生 ,  刘式墉

IPC: G02B6/124

Abstract: 本发明属于有机聚合物阵列波导光栅及其制作方法：以单晶硅片为衬底(1)，在硅片上涂覆聚合物下包层材料(2)后进行烘干，然后旋涂聚合物芯层材料(3)；烘干后在芯层材料上蒸发或溅射铝膜(4)，再在铝膜上涂覆光刻胶(5)，用阵列波导光栅掩膜板(7)进行光刻；然后进行氧反应离子刻蚀(9)；刻蚀后在聚合物芯层材料上得到阵列波导光栅的图形，再旋涂聚合物上包层材料(12)，烘干后得到阵列波导光栅。本发明的器件及其制作方法不仅容易控制聚合物芯层(13)和包层材料((2)、(12))的折射率差，而且容易控制每一层材料的厚度；可灵活选择包层和芯层材料，实现优化设计，器件成本低，成品率高，适合大批量生产。

公开(公告)号：CN1236335C

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：CN03127171.5

申请日：2003-09-22

Applicant: 吉林大学

Inventor： 张大明 ,  崔占臣 ,  赵禹 ,  王菲 ,  马春生 ,  刘式墉

IPC: G02B6/124

Abstract: 本发明属于有机聚合物阵列波导光栅及其制作方法：以单晶硅片为衬底(1)，在硅片上涂覆聚合物下包层材料(2)后进行烘干，然后旋涂聚合物芯层材料(3)；烘干后在芯层材料上蒸发或溅射铝膜(4)，再在铝膜上涂覆光刻胶(5)，用阵列波导光栅掩膜板(7)进行光刻；然后进行氧反应离子刻蚀(9)；刻蚀后在聚合物芯层材料上得到阵列波导光栅的图形，再旋涂聚合物上包层材料(12)，烘干后得到阵列波导光栅。本发明的器件及其制作方法不仅容易控制聚合物芯层(13)和包层材料((2)、(12))的折射率差，而且容易控制每一层材料的厚度；可灵活选择包层和芯层材料，实现优化设计，器件成本低，成品率高，适合大批量生产。