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公开(公告)号:CN119667801A
公开(公告)日:2025-03-21
申请号:CN202411918627.5
申请日:2024-12-24
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技(北京)有限公司
IPC: G01V5/22
Abstract: 一种辐射扫描装置及检查设备,辐射扫描装置(RS)包括:底盘(10);辐射源组件(20),设置于所述底盘(10);臂架组件(30),与所述底盘(10)或所述辐射源组件(20)连接,用于形成探测区域;和探测器组件(40),设置于所述臂架组件(30),并与所述辐射源组件(20)配合,以便对被探测对象(DO)进行扫描成像;其中,所述底盘(10)的高度是可调的。
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公开(公告)号:CN117784267A
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202311841945.1
申请日:2023-12-28
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技(北京)有限公司
Abstract: 本公开提供了一种辐射检测方法,涉及辐射检测领域、安全检查领域或其他领域。该方法用于包括第一靶点的第一射线扫描设备和包括第二靶点的第二射线扫描设备,具体包括:控制所述第一靶点扫描对象的第一区域,得到第一图像;控制所述第二靶点扫描所述对象的第二区域,得到第二图像,所述第二靶点相比所述第一靶点更接近地面;其中,所述第二区域中至少部分区域位于所述第一区域之外,且所述至少部分区域在竖直方向上位于所述第一区域的下方。能够提高扫描覆盖率,实现扫描对象上全部目标区域,达到理想的扫描效果。本公开还提供了一种辐射检测装置、设备和存储介质。
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