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公开(公告)号:CN101775606A
公开(公告)日:2010-07-14
申请号:CN201010120136.8
申请日:2010-03-09
Applicant: 哈尔滨工程大学
Abstract: 本发明提供一种镁合金的镀镍工艺方法。(1)对经过前处理的镁合金进行等离子体电解氧化。(2)活化与还原,将0.5~1g/L的PdCl2、1~3g/L的NaCl和4~6g/L的EDTA(乙二胺四乙酸)配成活化溶液,加热到30℃~35℃,活化5~10分钟;活化完成之后用去离子水清洗;然后用2.5wt%~3wt%次亚磷酸钠溶液进行还原处理,得到化学镀镍的催化中心。(3)表面镀镍。本发明在化学镀镍前,采用等离子体电解氧化工艺,避免了基体和镀层的电偶腐蚀。使用乙酸镍配置化学镀镍的镀液,溶液的pH值为6.2~6.5,能够克服普通化学镀工艺中用硫酸镍、氯化镍配置镀液时SO42-、Cl-对镁合金基体造成腐蚀的缺点。
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公开(公告)号:CN101775606B
公开(公告)日:2011-08-03
申请号:CN201010120136.8
申请日:2010-03-09
Applicant: 哈尔滨工程大学
Abstract: 本发明提供一种镁合金的镀镍工艺方法。(1)对经过前处理的镁合金进行等离子体电解氧化。(2)活化与还原,将0.5~1g/L的PdCl2、1~3g/L的NaCl和4~6g/L的EDTA(乙二胺四乙酸)配成活化溶液,加热到30℃~35℃,活化5~10分钟;活化完成之后用去离子水清洗;然后用2.5wt%~3wt%次亚磷酸钠溶液进行还原处理,得到化学镀镍的催化中心。(3)表面镀镍。本发明在化学镀镍前,采用等离子体电解氧化工艺,避免了基体和镀层的电偶腐蚀。使用乙酸镍配置化学镀镍的镀液,溶液的pH值为6.2~6.5,能够克服普通化学镀工艺中用硫酸镍、氯化镍配置镀液时SO42-、Cl-对镁合金基体造成腐蚀的缺点。
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