测量茎秆表皮细胞氢离子流评价大豆耐荫抗倒性的方法

    公开(公告)号:CN113030220B

    公开(公告)日:2023-04-14

    申请号:CN202110310079.8

    申请日:2021-03-23

    IPC分类号: G01N27/36 G01N27/333

    摘要: 本发明适用于植物耐荫抗倒性评价的技术领域,提供了一种测量茎秆表皮细胞氢离子流评价大豆耐荫抗倒性的方法。该方法包括:在大豆原本生长的环境下,打磨大豆茎秆表皮,形成打磨部位;采用平衡缓冲液使所述打磨部位的表皮细胞离子交换达到平衡;测量所述打磨部位的表皮细胞氢离子流;根据氢离子流测量结果进行耐荫抗倒性分析评价。本发明在植物原本生长的环境下,通过非损伤微测技术测量正常光照和荫蔽环境下大豆茎秆表皮氢离子流动情况,从而判断不同大豆品种耐荫抗倒性的相对强弱,本发明提供的方法简单、快速、准确性高,可在室内简单、有效地对大豆耐荫抗倒性进行评判。

    测量茎秆表皮细胞氢离子流评价大豆耐荫抗倒性的方法

    公开(公告)号:CN113030220A

    公开(公告)日:2021-06-25

    申请号:CN202110310079.8

    申请日:2021-03-23

    IPC分类号: G01N27/36 G01N27/333

    摘要: 本发明适用于植物耐荫抗倒性评价的技术领域,提供了一种测量茎秆表皮细胞氢离子流评价大豆耐荫抗倒性的方法。该方法包括:在大豆原本生长的环境下,打磨大豆茎秆表皮,形成打磨部位;采用平衡缓冲液使所述打磨部位的表皮细胞离子交换达到平衡;测量所述打磨部位的表皮细胞氢离子流;根据氢离子流测量结果进行耐荫抗倒性分析评价。本发明在植物原本生长的环境下,通过非损伤微测技术测量正常光照和荫蔽环境下大豆茎秆表皮氢离子流动情况,从而判断不同大豆品种耐荫抗倒性的相对强弱,本发明提供的方法简单、快速、准确性高,可在室内简单、有效地对大豆耐荫抗倒性进行评判。