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发明公开
等离子喷涂羟基磷灰石涂层后处理方法无效

公开(公告)号：CN1483480A

公开(公告)日：2004-03-24

申请号：CN03117835.9

申请日：2003-05-09

申请人： 四川大学

发明人： 曹阳 , 陈继镛 , 冯家珉 , 叶启玉 , 李旭东 , 翁杰 , 童伟东 , 张兴栋

IPC分类号： A61L27/32

摘要： 本发明涉及一种等离子喷涂羟基磷灰石涂层后处理方法。其特征是将经等离子喷涂制得的羟基磷灰石涂层产品放置一容器内，该容器与蒸汽发生器连接，通过对容器内的水蒸汽加热或(和)加压，使羟基磷灰石涂层产品在温度为100℃～300℃、压强为1～3个大气压的饱和水蒸汽下处理2～6小时，再将涂层产品取出放入温度为100℃～150℃的烘箱内烘烤0.5～2小时即可。本发明在较低温度下用饱和水蒸汽对涂层产品进行处理，消除了传统高温加热后处理对基底金属材料的力学性能的不利影响；提高了涂层与金属基底间的结合强度；提高了涂层的羟基磷灰石含量及结晶度，进而大大提高了涂层在体内的稳定性。本发明所需设备简单、投资少、成本低、容易实现大批量生产。