一种高光谱隐身涂料及其制备方法和高光谱隐身涂层

    公开(公告)号:CN111218197B

    公开(公告)日:2022-01-28

    申请号:CN202010145573.9

    申请日:2020-03-05

    摘要: 本发明涉及一种高光谱隐身涂料,包括如下质量百分比的组分:粘合剂40%~50%、颜填料14%~17.5%、功能性填料0~20%、助剂0.5%~1%和有机溶剂14%~18%。本发明制得的高光谱隐身涂料及涂层具有优异的防高光谱侦察性能,在0.4~2.5μm,高光谱隐身涂层近红外(710nm‑880nm)反射率平均值与红光区(620nm‑660nm)反射率平均值之比>5,光谱反射率在1200nm处反射率范围为40%~60%,在1400nm处反射率范围为30%~50%,在1800nm处反射率范围为20%~40%,在2500nm处反射率范围为0~20%,高光谱隐身涂层60度光泽小于5个光泽单位,满足国家军用标准要求,并具有传统隐身材料不具有的抗高光谱侦察伪装性能,将对抗波段扩展到0.4‑2.5微米范围。此外,本发明还涉及一种高光谱隐身涂料的制备方法及一种高光谱隐身涂层。

    一种多层耦合图形化磁性薄膜及制备和测试方法

    公开(公告)号:CN110246656A

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201910591463.2

    申请日:2019-07-02

    摘要: 本发明公开了一种多层耦合图形化磁性薄膜、制备方法和测试的方法,所述薄膜包括:衬底、连续薄膜层以及图形化薄膜层;连续薄膜层生长于衬底上,连续薄膜层形成电极形状,用于提供面外的磁矩分布,以及提供测试多层耦合图形化磁性薄膜的电性能的基础,图形化薄膜层形成于连续薄膜层上,图形化薄膜层是非连续结构的,图形化薄膜层用于提供涡旋态的磁矩分布。本发明结合溅射镀膜技术和光刻工艺,制备出非连续结构的多层耦合图形化磁性薄膜,实现利用PPMS对多层耦合图形化磁性薄膜整体测试出电阻的目标,解决非连续结构的磁性薄膜,需要利用电极探针单个单元挨个测试的问题,完成测试过程方便简捷,时间很短,极大的提高工作人员的工作效率。

    低红外发射率复合颜料及其制备方法

    公开(公告)号:CN105086527A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201510506262.X

    申请日:2015-08-18

    IPC分类号: C09C1/64 C09C3/06

    CPC分类号: Y02P20/124

    摘要: 本发明提供一种低红外发射率复合颜料及其制备方法,包括以下步骤:将Bi(NO)3·5H2O作为溶质,乙二醇为溶剂,配制成硝酸铋溶液,加入分散剂、铝粉,超声分散后匀速滴加弱碱溶液;反应完毕后收集沉淀干燥,研磨得到前驱体粉末;将得到的前驱体粉末煅烧,随炉冷却后得到低红外发射率复合颜料;所述颜料为表面包覆氧化铋的片状铝粉颜料,采用本发明方法制备的低红外发射率复合结构颜料外观呈黄色,金属光泽低,最佳配方和工艺条件下,在红外波段的平均发射率为0.43,满足彩色节能涂层以及伪装应用的技术要求;颜色为黄色,b*值高达33.8,亮度为65.8,可用于低发射率涂层的光学特性调控;经过煅烧处理,热稳定性好;无毒,制备时对人体危害小,对环境无污染。

    一种自适应红外控温模块
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109855326B

    公开(公告)日:2021-01-22

    申请号:CN201910142201.8

    申请日:2019-02-26

    IPC分类号: F25B21/02 F28D15/02 F41H3/00

    摘要: 一种自适应红外控温模块,属于红外隐身技术领域。所述自适应红外控温模块包括:电源、温度采集单元、伪装板单元和控制单元;其中,所述伪装板单元包括用于遮挡红外隐身目标的伪装板,紧贴在伪装板上用于多点均匀调节伪装板温度的多个半导体制冷片以及设置在所述多个半导体制冷片另一侧的散热装置,所述温度采集单元实时探测伪装板和背景温度;通过电源供电的控制单元分别与采温装置及半导体制冷片相连,实现伪装板与背景环境动态融合达到红外隐身。本发明温控过程中伪装板温度变化均匀性良好,并且响应快。同时很好地解决半导体制冷片热端散热问题,进而保证了控温效果。本发明实现复杂多变环境下地面目标热源部位的全天候热红外隐身。