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公开(公告)号：CN118581455A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202410693446.0
申请日：2024-05-31
申请人： 四川江化微电子材料有限公司
摘要： 本申请涉及平板显示技术领域，提供了一种银蚀刻液及其制备方法和应用，银蚀刻液以所述银蚀刻液的总重量为100％计，包括如下重量百分含量的下列组分：无机酸7～9％、有机酸5～7％、有机螯合剂13～18.5％、螯合分散剂8～10％、酸式无机盐15～28％，余量为水。银蚀刻液粘度小，银蚀刻液中具有缓冲作用的组分占比高，蚀刻速率稳定，蚀刻出的效果更好，均一性更好；同时添加有机酸螯合剂和螯合剂分散剂，改善银离子吸附回粘等情况。
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公开(公告)号：CN117779038A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311833725.4
申请日：2023-12-28
申请人： 四川江化微电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种低磷酸型钼铝钼蚀刻液及其制备方法，涉及钼蚀刻技术领域。本发明以按重量份计，包括磷酸40％～50％，醋酸40％～50％，硝酸1％～5％，添加剂0.01％～2％，其余为去离子水；所述添加剂主要由碱土金属盐、亚氨基二乙酸、甘氨酸、柠檬酸、乳酸、丙二酸、甲硫氨酸组成；以解决现有的磷酸体系钼铝钼蚀刻液废液处理成本高、蚀刻CD‑l oss大，蚀刻截面均一性差以及蚀刻表面铝刺较多，导致mura的问题。
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公开(公告)号：CN117779033A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311833722.0
申请日：2023-12-28
申请人： 四川江化微电子材料有限公司
IPC分类号： C23F1/14 , H01L21/3213
摘要： 本发明公开了一种高效长寿命一剂型铜蚀刻液，涉及TFT‑LCDArray制程技术领域。本发明按重量百分比计，主要组成为双氧水5～15％、双氧水稳定剂0.001～1％、有机酸5～10％、混合有机碱5～10％、螯合剂0.001～1％、抗蚀剂0.001～1％，其余为超纯水；以解决现有的铜蚀刻液单一使用寿命短、蚀刻速率较低、蚀刻指标不稳、蚀刻均一性差的问题。
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公开(公告)号：CN221309796U
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202323256178.6
申请日：2023-11-30
申请人： 四川江化微电子材料有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种NMP回收液杂质富集系统，涉及NMP洗液回收技术领域。本实用新型包括圆柱形处理罐，所述处理罐的顶面连通有进液管，所述处理罐内位于所述进液管的下方设有圆柱形的滤筒，所述滤筒的过滤部设于其侧壁，所述滤筒的底面同轴安装有转杆，所述转杆深处所述处理罐的底面与转动电机的转动段同轴连接，所述处理罐的底面还连通有排料管；以解决现有的NMP洗液固体杂质去除设备结构复杂过滤效率低的问题。
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