公开(公告)号：CN1352673A

公开(公告)日：2002-06-05

申请号：CN00808137.9

申请日：2000-09-05

申请人： 因芬尼昂技术北美公司 ,  国际商业机器公司

发明人： H·诺约 ,  R·J·舒尔茨 ,  R·拉马钱德兰

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC分类号： H01L21/31053

摘要： 一种用于化学机械抛光二氧化硅工件的水性无浆组合物,其包括:能在中性至碱性pH条件下溶解和离解的阳离子表面活性剂,其中阳离子表面活性剂在水性无浆组合物中的存在量低于其临界胶束浓度。

公开(公告)号：CN1211448C

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：CN00808137.9

申请日：2000-09-05

申请人： 因芬尼昂技术北美公司 ,  国际商业机器公司

发明人： H·诺约 ,  R·J·舒尔茨 ,  R·拉马钱德兰

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC分类号： H01L21/31053

摘要： 一种用于化学机械抛光二氧化硅工件的水性无浆组合物，其包括：能在中性至碱性pH条件下溶解和离解的阳离子表面活性剂，其中阳离子表面活性剂在水性无浆组合物中的存在量低于其临界胶束浓度。