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发明公开
用于对在暴露于电离辐射下递送通过辐射敏感膜的剂量进行测量的装置审中-实审

公开(公告)号：CN117413207A

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202280020604.5

申请日：2022-02-24

申请人： 国家科学研究中心 , 巴黎-萨克雷大学 , 西班牙高等科研理事会 , 塞维利亚大学

发明人： 孔苏埃洛·瓜迪奥拉·萨尔梅龙 , 奥古斯托·马尔克斯 , 格扎维埃·穆尼奥斯-贝尔韦尔 , 玛丽亚·戴尔·卡门·希门尼斯·拉莫斯 , 哈维尔·加西亚·洛佩斯

IPC分类号： G01T1/04

摘要： 本发明涉及一种用于对在暴露于电离辐射下递送通过辐射敏感膜的剂量进行测量的装置、一种包括这种装置的系统、以及这种装置的用途。更具体地，该装置包括：反射膜；至少一个光源；辐射敏感膜；以及光学传感器系统，光学传感器系统包括一个或更多个光敏电阻单元和/或半导体单元的2D阵列。本发明还涉及一种系统，该系统包括：前述装置；连接至该装置的光学传感器系统的读出集成电路单元；以及连接至读出集成电路的处理单元。本发明还涉及前述装置的用途。