公开(公告)号：CN111356957B

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN201880074305.3

申请日：2018-11-15

申请人： 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  公立大学法人兵库县立大学 ,  日产化学株式会社

发明人： 坂本盛嗣 ,  野田浩平 ,  膝附拓也 ,  小野浩司 ,  川月喜弘 ,  后藤耕平 ,  筒井皇晶

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B27/28

摘要： 本发明提供一种产生能够将具有环形状强度分布的光学涡旋的核直径(dV)利用为暗线并使用于能够进行微细加工的激光绘制曝光法的光的光产生装置及光产生方法、以及使用该装置及方法的曝光方法及装置。本发明提供一种产生使具有互不相同的拓扑荷的多个光学涡旋干涉所得到的光的光产生装置及光产生方法、以及使用该装置及方法的曝光方法及装置。

公开(公告)号：CN111356957A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201880074305.3

申请日：2018-11-15

申请人： 国立大学法人长冈技术科学大学 ,  公立大学法人兵库县立大学 ,  日产化学株式会社

发明人： 坂本盛嗣 ,  野田浩平 ,  膝附拓也 ,  小野浩司 ,  川月喜弘 ,  后藤耕平 ,  筒井皇晶

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B27/28

摘要： 本发明提供一种产生能够将具有环形状强度分布的光学涡旋的核直径(dV)利用为暗线并使用于能够进行微细加工的激光绘制曝光法的光的光产生装置及光产生方法、以及使用该装置及方法的曝光方法及装置。本发明提供一种产生使具有互不相同的拓扑荷的多个光学涡旋干涉所得到的光的光产生装置及光产生方法、以及使用该装置及方法的曝光方法及装置。