井流动控制系统和方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102203375B

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN200880131827.9

    申请日:2008-11-03

    IPC分类号: E21B17/00

    CPC分类号: E21B43/08 E21B43/12

    摘要: 用于烃井作业的流动控制系统和方法包含管道和流动控制装置。该管道限定井环状空间,并包含限定导流管的外部部件。井环状空间和导流管之间的流体交换由外部部件的可透部分(一个或多个)提供。该流动控制装置位于导流管内,包含导管限定构件和腔室限定构件。该导管限定构件(一个或多个)被配置成将该导流管分成至少两个流动控制导管。该腔室限定构件(一个或多个)被配置成将至少两个流动控制导管中的至少一个分成至少两个流动控制腔室。每个流动控制腔室具有至少一个入口和至少一个出口,其中每个适于允许流体从中流过,并留阻大于预定大小的颗粒。

    通过激发响应材料进行波及控制

    公开(公告)号:CN101529051A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200780002412.7

    申请日:2007-01-04

    IPC分类号: E21B43/04

    摘要: 本发明的名称是通过激发响应材料进行波及控制。一种方法、装置和生产井系统,其利用激发响应材料作为砾石充填的一部分或井工具上的涂层,用于在井中沿流体流动路程的“波及控制”和剖面控制。该激发响应材料也被称为智能聚合物或智能化高聚物,并且通常是在激发存在下可逆地或不可逆地膨胀或收缩的聚合物材料,所述激发例如与所述激发响应材料接触的流体介质的浓度、接触所述激发响应材料的介质的pH或极性、盐度、电流或温度上的变化。所述激发响应材料可以在与第一激发接触后膨胀并且在与第二激发接触后收缩或坍缩,或者反之亦然。生产剖面和注入剖面之间的变化在应用激发响应材料下可以是自动的并且可以在没有使用者干预下发生。

    灵活的完井
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101375016B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN200780003323.4

    申请日:2007-01-09

    IPC分类号: E21B43/16

    CPC分类号: E21B43/14 E21B43/00

    摘要: 本发明的发明名称是灵活的完井。描述了完井的方法。井可以是生产井或注入井。在一个实施方式中,所述方法包括识别与井有关的技术问题;选择技术来解决每一技术问题;为每一选择的技术定义标准,以确定将所选择的技术在所述井中展开的时间,其中每一选择的技术保持休眠直至所述标准得到满足;和将所述技术整合成完井剖面,其被存储在内存中并用于所述技术在所述井中的部署。所述方法提供主动解决技术问题以减少井的修理和调停的能力。

    灵活的完井
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101375016A

    公开(公告)日:2009-02-25

    申请号:CN200780003323.4

    申请日:2007-01-09

    IPC分类号: E21B43/16

    CPC分类号: E21B43/14 E21B43/00

    摘要: 本发明是灵活的完井。描述了完井的方法。井可以是生产井或注入井。在一个实施方式中,所述方法包括识别与井有关的技术问题;选择技术来解决每一技术问题;为每一选择的技术定义标准,以确定将所选择的技术在所述井中展开的时间,其中每一选择的技术保持休眠直至所述标准得到满足;和将所述技术整合成完井剖面,其被存储在内存中并用于所述技术在所述井中的部署。所述方法提供主动解决技术问题以减少井的修理和调停的能力。

    井流动控制系统和方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102203375A

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN200880131827.9

    申请日:2008-11-03

    IPC分类号: E21B17/00

    CPC分类号: E21B43/08 E21B43/12

    摘要: 用于烃井作业的流动控制系统和方法包含管道和流动控制装置。该管道限定井环状空间,并包含限定导流管的外部部件。井环状空间和导流管之间的流体交换由外部部件的可透部分(一个或多个)提供。该流动控制装置位于导流管内,包含导管限定构件和腔室限定构件。该导管限定构件(一个或多个)被配置成将该导流管分成至少两个流动控制导管。该腔室限定构件(一个或多个)被配置成将至少两个流动控制导管中的至少一个分成至少两个流动控制腔室。每个流动控制腔室具有至少一个入口和至少一个出口,其中每个适于允许流体从中流过,并留阻大于预定大小的颗粒。