公开(公告)号：CN103999192B

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201280062403.8

申请日：2012-12-17

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 大畑公孝 ,  木村忠信 ,  大河原直人

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/70491

Abstract: 提供使掩模更换时的掩模选择有效率、能进行短时间的掩模更换的曝光系统。曝光系统(1)具备：曝光装置(10)，其通过掩模对基板照射光；以及控制部(30)，其控制曝光装置(10)。控制部于曝光装置(10)内的哪个位置的位置信息，基于位置信息选择在接下来处理的基板的曝光中使用的掩模。(30)从曝光装置(10)实时地接收表示掩模存在

公开(公告)号：CN103999192A

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN201280062403.8

申请日：2012-12-17

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 大畑公孝 ,  木村忠信 ,  大河原直人

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/70491

Abstract: 提供使掩模更换时的掩模选择有效率、能进行短时间的掩模更换的曝光系统。曝光系统(1)具备：曝光装置(10)，其通过掩模对基板照射光；以及控制部(30)，其控制曝光装置(10)。控制部(30)从曝光装置(10)实时地接收表示掩模存在于曝光装置(10)内的哪个位置的位置信息，基于位置信息选择在接下来处理的基板的曝光中使用的掩模。