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公开(公告)号：CN102866130A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210228108.7
申请日：2012-07-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G01N21/3563
Abstract: 一种光测量分析装置、储藏库、电磁波发生装置以及光测量分析方法。提供一种能效率良好地对分析对象物的大致整个面照射光并使分析的精度得以提高的光测量分析装置。本实施方式的光测量分析装置包括容器、光源、光照射部、光接收部、分光部、以及对由分光部得到的光的频谱进行分析的分析部。容器的内壁构成为对从分析对象物反射的光和透射后的光进行反射。
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