-
公开(公告)号:CN110372563A
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201910666468.7
申请日:2019-07-23
申请人: 大连理工大学
IPC分类号: C07D207/34 , C07D207/33 , C07D207/323
摘要: 本发明提供一种温和的取代吡咯磺酰胺脱保护方法,属于有机合成领域。直接以吡咯为起始原料制备多取代吡咯的方法较之环化法大大缩短了合成路线,且取代基的引入种类也更为灵活;但以吡咯为原料时需要先对环上氮原子予以保护,反应结束时再将该保护基脱除。N,N-二甲磺酰胺基作为一种吸电子能力较强的基团,在作为吡咯保护基方面具有极大的优势,但目前未见有该保护基脱除方面的报道。本发明旨在使用一种新的方法对该保护基进行脱除,通过一种温和的方法,有效的将吡咯氯原子上的基团—N,N-二甲磺酰胺基脱除,为制备多取代吡咯奠定了基础。结果表明,本方法不仅可有效脱除N,N-二甲磺酰胺基,其对卤素的脱除也有一定的借鉴意义。