一种用于等离子体刻蚀剖面演化的三维计算方法

    公开(公告)号:CN102841964A

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201210293958.5

    申请日:2012-08-17

    Abstract: 本发明公开了一种用于等离子体刻蚀剖面演化的三维计算方法,在等离子体刻蚀剖面演化过程中,将刻蚀的初始剖面形状用初始的水平集函数加以描述,并通过重新初始化函数对初始的水平集函数进行修正,进一步通过等离子体流中的离子角度分布和能量分布拟合出整个演化过程中所需要的速度场,构成完整的水平集演化方程,最后通过修正的戈多诺夫公式求解该水平集演化方程,得到整个的剖面演化过程。本发明数学基础严格,容易得到几何信息;运算效率高,节约内存;数值稳定性强,容易收敛;二维到三维拓展过程简便,易于编程实现。解决已有的刻蚀剖面演化三维计算方法的计算效率低,稳定性差,及数学基础缺乏的缺点,是一种适合用于商业化的高效计算方法。

    一种用于等离子体刻蚀剖面演化的三维计算方法

    公开(公告)号:CN102841964B

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201210293958.5

    申请日:2012-08-17

    Abstract: 本发明公开了一种用于等离子体刻蚀剖面演化的三维计算方法,在等离子体刻蚀剖面演化过程中,将刻蚀的初始剖面形状用初始的水平集函数加以描述,并通过重新初始化函数对初始的水平集函数进行修正,进一步通过等离子体流中的离子角度分布和能量分布拟合出整个演化过程中所需要的速度场,构成完整的水平集演化方程,最后通过修正的戈多诺夫公式求解该水平集演化方程,得到整个的剖面演化过程。本发明数学基础严格,容易得到几何信息;运算效率高,节约内存;数值稳定性强,容易收敛;二维到三维拓展过程简便,易于编程实现。解决已有的刻蚀剖面演化三维计算方法的计算效率低,稳定性差,及数学基础缺乏的缺点,是一种适合用于商业化的高效计算方法。

Patent Agency Ranking