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公开(公告)号：CN113048118B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202110314991.0
申请日：2021-03-24
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明属于液压装置技术领域，具体涉及一种用于迎角调节的液压支撑装置，包括支撑体、液压缸和支撑杆；支撑体用于支撑固定支撑杆和液压缸；支撑杆的中部与支撑体铰接，其一端连接液压缸中的液压杆，另一端安装待调角度目标物，利用杠杆原理进行角度调节。液压缸包括液压缸腔体、夹紧缸、液压杆、液压杆轴套和位移传感器，夹紧缸中设有锁紧装置，通过改变油路，以改变液压杆的移动方向，并通过锁紧装置进行锁紧。本发明可通过更换不同的杠杆，调节杠杆支点位置可获得较宽的调姿范围；可对现有迎角度调节机构进行迎角调节，扩大调姿范围；在定位后可通过液压驱动锁紧装置锁紧，抵抗外部干扰；安装有高精度磁致伸缩位移传感器，位置反馈精确。
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公开(公告)号：CN109974597A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201910353627.8
申请日：2019-04-29
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 一种XY平面光电式非接触位移传感器系统及其使用方法，属于光电系统领域以及物联网领域，包括计算机系统、光电系统以及运动控制系统；光电系统固定在待测物体上并与计算机系统连接，运动控制系统均与光电系统连接，用于控制待测量物体在XY方向移动；待测量物体设于基板上方。光电传感器包括图像处理系统、数字信号处理器和SPI接口，通过数字信号处理器对图像传感器采集的图像信号进行处理，得到光电系统在X和Y方向的位移量ΔX和ΔY，再将位移量通过光电传感器SPI接口传输到单片机控制芯片，经过处理后的数据通过WIFI模块发送到计算机系统进行处理。本发明能够实现XY两个方向位移的同时测量、实时传输及位移控制，能够解决现有技术中高速、两个方向同时测量位移量的问题。
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公开(公告)号：CN1644752A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200510045678.2
申请日：2005-01-15
申请人： 大连理工大学
摘要： 物理气相沉积领域中的黄铜件真空离子镀替代电镀方法，包括黄铜件、抛光、清洗、烘烤、炉体真空室、脉冲负偏压、靶材，特征：在黄铜件[3]与真空室[9]之间，加有脉冲负偏压，其占空比为10－30％，电压为100－2000V，频率为40KHz；替代电镀镍的离子镀中间层，是在纯金属钛及其合金或锆及其合金上，还镀有氮化钛或氮化锆，并在离子镀的中间层与黄铜件之间有1－2 μm的过渡层；工艺：抛光后经超声清洗、装炉抽真空，烘烤、溅射清洗、离子镀中间层，之后，或离子镀制备成品，或经离子镀TiN(或ZrN)后制备成品。优点：①膜层中没有Ni元素，无害；②没有三废无须治理；③镀层附着性好，致密性好，耐蚀性强；④色泽好光亮不起朦，装饰性好。
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公开(公告)号：CN113048118A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202110314991.0
申请日：2021-03-24
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明属于液压装置技术领域，具体涉及一种用于迎角调节的液压支撑装置，包括支撑体、液压缸和支撑杆；支撑体用于支撑固定支撑杆和液压缸；支撑杆的中部与支撑体铰接，其一端连接液压缸中的液压杆，另一端安装待调角度目标物，利用杠杆原理进行角度调节。液压缸包括液压缸腔体、夹紧缸、液压杆、液压杆轴套和位移传感器，夹紧缸中设有锁紧装置，通过改变油路，以改变液压杆的移动方向，并通过锁紧装置进行锁紧。本发明可通过更换不同的杠杆，调节杠杆支点位置可获得较宽的调姿范围；可对现有迎角度调节机构进行迎角调节，扩大调姿范围；在定位后可通过液压驱动锁紧装置锁紧，抵抗外部干扰；安装有高精度磁致伸缩位移传感器，位置反馈精确。
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公开(公告)号：CN209541679U
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201920603487.0
申请日：2019-04-29
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 一种XY平面光电式非接触位移传感器系统，属于光电系统领域以及物联网领域，包括计算机系统、光电系统以及运动控制系统；光电系统固定在待测物体上并与计算机系统连接，运动控制系统均与光电系统连接，用于控制待测量物体在XY方向移动；待测量物体设于基板上方。光电传感器包括图像处理系统、数字信号处理器和SPI接口，通过数字信号处理器对图像传感器采集的图像信号进行处理，得到光电系统在X和Y方向的位移量ΔX和ΔY，再将位移量通过光电传感器SPI接口传输到单片机控制芯片，经过处理后的数据通过WIFI模块发送到计算机系统进行处理。本实用新型能够实现XY两个方向位移的同时测量、实时传输及位移控制，能够解决现有技术中高速、两个方向同时测量位移量的问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN2903094Y
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200620089172.1
申请日：2006-01-26
申请人： 大连理工大学
摘要： 物理气相沉积领域中的用双向离子镀磁控溅射代替电镀设备的炉体，包括炉体[10]、炉门[26]、炉底[6]、真空室[1]、外蒸发源[2]、内蒸发源[5]、接在工件架上的脉冲偏压电源[7]、离子源接口[11]和抽真空接口[9]均安装在炉体上。其特征：在真空室内的轴心线[14]上设有多个内蒸发源[5]，在炉体[10]侧壁上平行于轴心线[14]设有多个外蒸发源[2]，在内、外蒸发源之间并平行于其轴心线[14]设有外工件架轴[3]和内工件架轴[4]，在工件架轴上设有料盘[15]，工件[13]挂在料盘[15]上，在工件架轴的作用下可以自转和公转。内、外蒸发源[5、2]在控制柜操作下可同时或分开工作。优点：(1)装炉量大，与现有技术相比提高50％；(2)降低成本30％。
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