公开(公告)号：CN1777831A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200480010909.X

申请日：2004-04-15

Applicant: 奥林巴斯株式会社

Inventor： 早川和仁 ,  本桥胜实 ,  加藤茂

IPC: G02B13/00 ,  G06F17/50

CPC classification number: G02B27/0012

Abstract: 一种设计光学系统的方法，具有：初始值设置步骤(S1)，用于设置在没有考虑制造误差的设计状态下的光学参数；制造状态制备/更新步骤(S2)，用于通过将制造误差添加到设计状态下的光学参数中来制备参数作为制造状态下的光学参数，或者用于更新现有制造状态下的光学参数的制造误差；评估函数制备步骤(S3)，用于制备评估函数；以及优化执行步骤(S4)，用于优化评估函数并获得最佳光学参数。

公开(公告)号：CN100360980C

公开(公告)日：2008-01-09

申请号：CN200480010909.X

申请日：2004-04-15

Applicant: 奥林巴斯株式会社

Inventor： 早川和仁 ,  本桥胜实 ,  加藤茂

IPC: G02B13/00 ,  G06F17/50

CPC classification number: G02B27/0012

Abstract: 一种设计光学系统的方法，具有：初始值设置步骤(S1)，用于设置在没有考虑制造误差的设计状态下的光学参数；制造状态制备/更新步骤(S2)，用于通过将制造误差添加到设计状态下的光学参数中来制备参数作为制造状态下的光学参数，或者用于更新现有制造状态下的光学参数的制造误差；评估函数制备步骤(S3)，用于制备评估函数；以及优化执行步骤(S4)，用于优化评估函数并获得最佳光学参数。