一种氯硅烷汽液相平衡数据测定装置

    公开(公告)号:CN218824106U

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202221634738.X

    申请日:2022-06-28

    IPC分类号: G01N30/02 G01N30/06

    摘要: 本实用新型提供了一种氯硅烷汽液相平衡数据测定装置,由平衡釜、恒温槽、恒温夹套、真空泵、气相色谱和数显装置组成,恒温槽位于平衡釜左侧,恒温夹套位于平衡釜下侧,与平衡釜紧密包围,真空泵位于平衡釜右后侧,气相色谱位于平衡釜外侧,与平衡釜不连接,通过间歇取样的方式检测样品纯度,数显装置位于平衡釜左后侧,数显装置利用线路与压力传感器、温度传感器连接;平衡釜由釜体、压紧式法兰以及釜盖组成,釜盖位于釜体的上方,釜体和釜盖为可拆卸连接,压紧式法兰为釜体和釜盖的连接装置;恒温槽通过保温软管与恒温夹套连接;恒温夹套位于平衡釜下侧,与平衡釜紧密包围;真空泵位于平衡釜右后侧,该真空泵通过真空管与釜盖上的真空阀连接。

    一种三氯氢硅差压耦合精馏工艺及动态控制方案

    公开(公告)号:CN113171629A

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN202110266401.1

    申请日:2021-03-11

    发明人: 尹民 陆平 白芳 华超

    IPC分类号: B01D3/14 B01D3/42 C01B33/107

    摘要: 本发明属于化工行业的纯化领域,涉及一种三氯氢硅差压耦合精馏工艺及动态控制方案。包括:流量控制器,用于控制进料流率;压力控制器,用于控制精馏塔的塔压;液位控制器,用于控制塔顶回流罐与塔釜液位;温度控制器,用于调节精馏塔的塔温;比例控制器,分别用于固定低压塔回流量与进料流量的比值、高压塔再沸器热负荷与进料流量之间的比值以及高压塔回流量与塔顶采出量之间的比值。本发明工艺过程实现热集成,大幅度降低能量消耗;动态控制方案可以稳健的控制10%以内的进料流量扰动以及25%的进料杂质扰动,分离得到的三氯氢硅产品纯度在99.99%以上;具有较强的鲁棒性与稳定性。

    一种三氯氢硅差压耦合精馏工艺及动态控制方案

    公开(公告)号:CN113171629B

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202110266401.1

    申请日:2021-03-11

    发明人: 尹民 陆平 白芳 华超

    IPC分类号: B01D3/14 B01D3/42 C01B33/107

    摘要: 本发明属于化工行业的纯化领域,涉及一种三氯氢硅差压耦合精馏工艺及动态控制方案。包括:流量控制器,用于控制进料流率;压力控制器,用于控制精馏塔的塔压;液位控制器,用于控制塔顶回流罐与塔釜液位;温度控制器,用于调节精馏塔的塔温;比例控制器,分别用于固定低压塔回流量与进料流量的比值、高压塔再沸器热负荷与进料流量之间的比值以及高压塔回流量与塔顶采出量之间的比值。本发明工艺过程实现热集成,大幅度降低能量消耗;动态控制方案可以稳健的控制10%以内的进料流量扰动以及25%的进料杂质扰动,分离得到的三氯氢硅产品纯度在99.99%以上;具有较强的鲁棒性与稳定性。

    一种具有亲水性的组合规整填料
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113975843A

    公开(公告)日:2022-01-28

    申请号:CN202110944229.0

    申请日:2021-08-17

    IPC分类号: B01D3/32 B01D3/14

    摘要: 本发明涉及一种具有亲水性的组合规整填料,其组件由组件A和组件B构成。组件A是缝合而成的长方形催化剂包,内部填充催化剂;组件B是经过特定技术在填料表面添加涂层后的规整填料片,将组件A和组件B按照一定的比例分别交替放置形成本发明的具有高润湿性的规整填料。经过特定表面技术改性后的规整填料片增加了金属表面的亲水性,使规整填料表面的液膜变厚和更多液体在金属表面铺展,有效促进气液相的接触和传质。组件A和组件B的交替排列增加了气液相的流动通道,降低压降;填料表面亲水性的增强促进液体在金属表面的铺展,促进气液相的接触和传质,提高流体的扩散及返混,提高反应物及催化剂的利用率。