一种三维SiO2超薄膜及其应用

    公开(公告)号:CN101774590B

    公开(公告)日:2013-01-09

    申请号:CN200910095419.9

    申请日:2009-01-09

    Applicant: 宁波大学

    Abstract: 一种三维SiO2超薄膜及其制备方法和应用,其特征在于它采用三维骨架结构的聚合物整体型模板,然后将SiO2的前驱物硅酸酯在模板的孔道内原位水解,使水解产生的SiO2在聚合物表面沉积,形成三维连续的超薄膜,然后将聚合物/SiO2复合物在高温下煅烧,除去聚合物,同时又使SiO2烧结成型,最后剩下目标产物,使该三维SiO2超薄膜的厚度为15~90纳米可控,孔隙率为50%~95%;它可作为催化剂载体,也可用于合成新型的三维超薄膜材料,制备方法条件温和,适合大规模生产制造。

    一种三维SiO2超薄膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN101774590A

    公开(公告)日:2010-07-14

    申请号:CN200910095419.9

    申请日:2009-01-09

    Applicant: 宁波大学

    Abstract: 一种三维SiO2超薄膜及其制备方法和应用,其特征在于它采用三维骨架结构的聚合物整体型模板,然后将SiO2的前驱物硅酸酯在模板的孔道内原位水解,使水解产生的SiO2在聚合物表面沉积,形成三维连续的超薄膜,然后将聚合物/SiO2复合物在高温下煅烧,除去聚合物,同时又使SiO2烧结成型,最后剩下目标产物,使该三维SiO2超薄膜的厚度为15~90纳米可控,孔隙率为50%~95%;它可作为催化剂载体,也可用于合成新型的三维超薄膜材料,制备方法条件温和,适合大规模生产制造。

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