-
公开(公告)号：CN103240148A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201210102101.0
申请日：2012-04-09
申请人： 宇部兴产机械株式会社
摘要： 本发明提供一种立式粉碎机，其能够固定地调整原料层厚，并且能够抑制异常振动从而高效地对原料进行微粉碎。立式粉碎机(1)包括：旋转磨盘(7)，其具有被供给原料的中央区域(11)和供粉碎辊(21)与辅助辊(22)滚动的磨辊滚动区域(13)；用于将新原料供给至中央区域上的溜槽(19)；用于将内部循环原料供给至中央区域上的锥体(18)；以及刮板(15)，其经由支承轴(17)安装并固定于锥体的下端部，用于搅拌中央区域上的原料。将旋转磨盘上的原料的层厚固定为刮板和旋转磨盘之间的间隙(59)的高度，并且利用挡料环(47)的高度来调整该层厚。在磨辊滚动区域上，原料层在被辅助辊进行排气后被粉碎辊进行微粉碎。
-
公开(公告)号：CN103240148B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201210102101.0
申请日：2012-04-09
申请人： 宇部兴产机械株式会社
摘要： 本发明提供一种立式粉碎机，其能够固定地调整原料层厚，并且能够抑制异常振动从而高效地对原料进行微粉碎。立式粉碎机(1)包括：旋转磨盘(7)，其具有被供给原料的中央区域(11)和供粉碎辊(21)与辅助辊(22)滚动的磨辊滚动区域(13)；用于将新原料供给至中央区域上的溜槽锥体(18)；以及刮板(15)，其经由支承轴(17)安装并固定于锥体的下端部，用于搅拌中央区域上的原料。将旋转磨盘上的原料的层厚固定为刮板和旋转磨盘之间的间隙(59)的高度，并且利用挡料环(47)的高度来调整该层厚。在磨辊滚动区域上，原料层在被辅助辊进行排气后被粉碎辊进行微粉碎。(19)；用于将内部循环原料供给至中央区域上的
-
公开(公告)号：CN101594940B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200880003059.9
申请日：2008-01-23
申请人： 宇部兴产机械株式会社
摘要： 一种用于立式研磨机的控制方法,所述控制方法包括以下步骤:当减少对立式研磨机(1)的材料供应量时，在实际改变材料供应量之前减少旋转台(2)的转数。换言之，当停止立式研磨机(1)时，在改变对立式研磨机(1)的新材料供应量之前，在控制面板(50)的控制器(50A)处接收到来自锅炉主控制器的改变供应量的信号时，通过逆变器控制将用于驱动旋转台(2)的马达(2M)的转数从额定转数减小，从而减小旋转台(2)的转数。之后，在经过预定时间后实际改变材料供应。由于可在抑制立式研磨机(1)的工作负荷的同时停止立式研磨机(1)，并且将旋转台(2)上的材料层厚度保持在预定高度，所以在停止操作期间可有效防止异常震动，并可抑制产生噪音。
-
公开(公告)号：CN101594940A
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200880003059.9
申请日：2008-01-23
申请人： 宇部兴产机械株式会社
摘要： 当减少对立式研磨机(1)的材料供应量时，在实际改变材料供应量之前减少旋转台(2)的转数。换言之，当停止立式研磨机(1)时，在改变对立式研磨机(1)的新材料供应量之前，在控制面板(50)的控制器(50A)处接收到来自锅炉主控制器的改变供应量的信号时，通过逆变器控制将用于驱动旋转台(2)的马达(2M)的转数从额定转数减小，从而减小旋转台(2)的转数。之后，在经过预定时间后实际改变材料供应。由于可在抑制立式研磨机(1)的工作负荷的同时停止立式研磨机(1)，并且将旋转台(2)上的材料层厚度保持在预定高度，所以在停止操作期间可有效防止异常震动，并可抑制产生噪音。
-
公开(公告)号：CN202621230U
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201220146883.3
申请日：2012-04-09
申请人： 宇部兴产机械株式会社
摘要： 本实用新型提供一种立式粉碎机，其能够固定地调整原料层厚，并且能够抑制异常振动从而高效地对原料进行微粉碎。立式粉碎机(1)包括：旋转磨盘(7)，其具有被供给原料的中央区域(11)和供粉碎辊(21)与辅助辊(22)滚动的磨辊滚动区域(13)；用于将新原料供给至中央区域上的溜槽(19)；用于将内部循环原料供给至中央区域上的锥体(18)；以及刮板(15)，其经由支承轴(17)安装并固定于锥体的下端部，用于搅拌中央区域上的原料。将旋转磨盘上的原料的层厚固定为刮板和旋转磨盘之间的间隙(59)的高度，并且利用挡料环(47)的高度来调整该层厚。在磨辊滚动区域上，原料层在被辅助辊进行排气后被粉碎辊进行微粉碎。
-
-
-
-
搜索结果
5 条记录 (耗时 0.029 秒)