公开(公告)号：CN115584503A

公开(公告)日：2023-01-10

申请号：CN202211281453.7

申请日：2022-10-19

申请人： 安徽万磁电子有限公司

发明人： 裴明刚 ,  李小定 ,  袁敏

IPC分类号： C23F1/44 ,  C23F1/28 ,  C23F1/18 ,  C23F11/10

摘要： 本发明公开一种降低基材腐蚀的烧结钕铁硼镍铜镍镀层退镀工艺，涉及钕铁硼再利用技术领域。本发明用于解决不能在去除表面镍铜镍镀层的同时降低对烧结钕铁硼磁体的腐蚀性，以进一步提高钕铁硼磁体的再利用率的技术问题；退镀工艺的步骤包括退镀液配制、浸泡退镀、清洗干燥，退镀液以硝酸和氢氟酸为主成分；阳离子表面活性剂能够以氢键与硝酸、氢氟酸分子中的氢键合，使其氨基带上正电荷，带来良好表面活性的同时降低了氢氟酸的挥发性；配合乙二胺四乙酸四钠的金属络合作用以及活性缓蚀剂的缓蚀作用，使得退镀工艺能够高效完全的去除烧结钕铁硼磁体表面的镍铜镍镀层，降低对钕铁硼磁体的腐蚀性，提高钕铁硼磁体的再利用率。

公开(公告)号：CN115584503B

公开(公告)日：2024-05-17

申请号：CN202211281453.7

申请日：2022-10-19

申请人： 安徽万磁电子有限公司

发明人： 裴明刚 ,  李小定 ,  袁敏

IPC分类号： C23F1/44 ,  C23F1/28 ,  C23F1/18 ,  C23F11/10

摘要： 本发明公开一种降低基材腐蚀的烧结钕铁硼镍铜镍镀层退镀工艺，涉及钕铁硼再利用技术领域。本发明用于解决不能在去除表面镍铜镍镀层的同时降低对烧结钕铁硼磁体的腐蚀性，以进一步提高钕铁硼磁体的再利用率的技术问题；退镀工艺的步骤包括退镀液配制、浸泡退镀、清洗干燥，退镀液以硝酸和氢氟酸为主成分；阳离子表面活性剂能够以氢键与硝酸、氢氟酸分子中的氢键合，使其氨基带上正电荷，带来良好表面活性的同时降低了氢氟酸的挥发性；配合乙二胺四乙酸四钠的金属络合作用以及活性缓蚀剂的缓蚀作用，使得退镀工艺能够高效完全的去除烧结钕铁硼磁体表面的镍铜镍镀层，降低对钕铁硼磁体的腐蚀性，提高钕铁硼磁体的再利用率。

公开(公告)号：CN218507933U

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN202222529368.X

申请日：2022-09-23

申请人： 安徽万磁电子有限公司

发明人： 裴明刚 ,  汪宗平 ,  袁敏

IPC分类号： C25D17/00 ,  C25D21/06

摘要： 本实用新型公开了一种增强结合力的钕铁硼电镀合金设备,属于钕铁硼加工技术领域。本实用新型用于解决钕铁硼工件预镀镍和镀铜加厚，所需浸泡时间较长，影响加工效率；现有渡槽内镀液静置不动，多次镀加工容易导致镀液混杂、沉淀和镀液中镀料不均等问题，影响钕铁硼镀加的技术问题。本实用新包括喷砂箱，喷砂箱的一外壁上开设有观察口，喷砂箱的另一侧外壁上贯穿固定安装有滑动架。本实用新型伸缩夹具将待加工的钕铁硼产品夹持，喷砂箱对钕铁硼产品表面进行多重喷砂处理，增加钕铁硼产品表面镀层附着力，同时结合多重镀镍与镀铜堆叠镀层加工，增加钕铁硼表面镀层之间结合力，实现钕铁硼产生表面多层镀加工，提高持续加工效率。