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公开(公告)号：CN115335961A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202180024035.7
申请日：2021-01-22
Applicant: 安捷伦科技有限公司
Abstract: 本文提供了一种包含多个部件的离子源，所述多个部件中的至少一个部分地涂覆有硅层。所述离子源降低了样品与载气之间的反应性，减少或消除了离子色谱图中的拖尾，和/或改善了质谱保真度。还提供了在质谱仪或气相色谱质谱联用仪中使用所述离子源的方法。
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