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公开(公告)号：CN117219488A
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202310672287.1
申请日：2023-06-07
Applicant: 安捷伦科技有限公司
Abstract: 一种装置，包括在形成本体的透明聚合物内表面的一部分上的亲水层；其中所述亲水层包括所述透明聚合物的磺化内表面、二氧化硅、碳氧化硅、透明聚合物的O2等离子体处理物或其组合。所述装置可以是例如用于电感耦合等离子体装置中的喷雾器或喷雾室。还公开了一种制造所述装置的方法。
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