镜板研磨设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102581747A

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN201110006689.5

    申请日:2011-01-13

    IPC分类号: B24B37/04

    摘要: 本发明公开了一种镜板研磨设备,包括一有中空底座的支撑架I、升降和旋转驱动装置、研磨组件和研磨液添加装置,升降和旋转驱动装置包括与支撑架II滑动联接的旋转驱动装置和与支撑架II活动联接的升降装置,升降装置的输出轴顶端与旋转驱动装置的底部保持接触,研磨组件包括一水平旋臂,研磨盘与水平旋臂滑动联接,工作面向上,旋转轴与水平旋臂固定联接,旋转轴与旋转驱动装置的输出轴通过花键联接,本发明可用于水力发电厂水轮发电机组、大型立式水泵等大型设备立式转轴推力轴承的镜板研磨工作,适合大型环状工件的现场平面研磨。

    镜板研磨设备
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN201989045U

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN201120010093.8

    申请日:2011-01-13

    IPC分类号: B24B37/04

    摘要: 本实用新型公开了一种镜板研磨设备,包括一有中空底座的支撑架I、升降和旋转驱动装置、研磨组件和研磨液添加装置,升降和旋转驱动装置包括与支撑架II滑动联接的旋转驱动装置和与支撑架II活动联接的升降装置,升降装置的输出轴顶端与旋转驱动装置的底部保持接触,研磨组件包括一水平旋臂,研磨盘与水平旋臂滑动联接,工作面向上,旋转轴与水平旋臂固定联接,旋转轴与旋转驱动装置的输出轴通过花键联接,本实用新型可用于水力发电厂水轮发电机组、大型立式水泵等大型设备立式转轴推力轴承的镜板研磨工作,适合大型环状工件的现场平面研磨。

    一种可移动式液压支架
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205114998U

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201520947199.9

    申请日:2015-11-25

    发明人: 杜聪炬

    IPC分类号: B66F19/00

    摘要: 一种可移动式液压支架,包括底架,活动架通过滚轮沿底架纵向滑动、并用夹轨装置锁紧,所述活动架上横向至少设有两条滑轨,每条滑轨上成对安装有支撑圆柱形工件的支撑组件,支撑组件通过底部的滑块沿活动架横向滑动、并用拉杆装置锁紧。本实用新型提供的一种可移动式液压支架,通过采用液压控制系统对支撑组件进行驱动,一方面对工件进行滚动支撑,另一方面可对工件进行水平横向、纵向移动,并锁紧。由此最终实现大型圆柱形工件的支撑、升降、回转、水平位置调整,操作一次吊装完成,简单方便。

    一种液压回转驱动装置
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203809650U

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201420132197.X

    申请日:2014-03-24

    IPC分类号: F16H57/021 F16H57/023

    摘要: 本实用新型涉及一种液压回转驱动装置,包括基座,基座内固定有回转齿轮,回转齿轮的外圈均匀布置有多个主动齿轮,且回转齿轮与主动齿轮活动啮合,主动齿轮由液压马达进行驱动;回转齿轮的内圈设有主轴延伸轴,主轴延伸轴的上、下端部均设有法兰,回转齿轮的上表面均匀固定有多个驱动杆,驱动杆的一端位于回转齿轮上,另一端设有万向球头,万向球头与主轴延伸轴上端法兰斜切口活动接触;主轴延伸轴通过下端的法兰与被检主轴进行连接。其通过液压马达驱动主动齿轮转动,进而带动与之啮合的回转齿轮;再由回转齿轮上表面的驱动杆来驱动主轴延伸轴旋转,最后使得被检主轴转动,完成检测;该结构设计合理,操作调节方便,可广泛用于轴系中心的调整。