公开(公告)号：CN101276181B

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN200710151450.0

申请日：2007-10-18

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 伊藤昌夫 ,  藤井雅彦

IPC: G03G15/04 ,  B41J2/435 ,  B41J2/44

CPC classification number: G03G15/326 ,  B41J2/451 ,  G03G15/04054

Abstract: 本发明公开一种曝光装置，该曝光装置包括：多个光源；第一聚光单元，其设置成与各光源的发光表面接触，用于对从所述多个光源出射的光进行聚光；以及第二聚光单元，其对从所述第一聚光单元出射的来自各光源的光进行聚光，其中，所述第一聚光单元构造成：其出射来自所述光源的光的输出表面的曲率中心比所述光源的设置位置更靠近所述第二聚光单元侧。

公开(公告)号：CN101276181A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200710151450.0

申请日：2007-10-18

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 伊藤昌夫 ,  藤井雅彦

IPC: G03G15/04 ,  B41J2/435 ,  B41J2/44

CPC classification number: G03G15/326 ,  B41J2/451 ,  G03G15/04054

Abstract: 本发明公开一种曝光装置，该曝光装置包括：多个光源；第一聚光单元，其设置成与各光源的发光表面接触，用于对从所述多个光源出射的光进行聚光；以及第二聚光单元，其对从所述第一聚光单元出射的来自各光源的光进行聚光，其中，所述第一聚光单元构造成：其出射来自所述光源的光的输出表面的曲率中心比所述光源的设置位置更靠近所述第二聚光单元侧。