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1.

发明公开
控制照相处理条件的方法和控制图象形成设备的方法和装置失效转让

公开(公告)号：CN1154494A

公开(公告)日：1997-07-16

申请号：CN95121898.0

申请日：1995-11-18

申请人： 富士胶片公司

发明人： 松本伸雄 , 寺下隆章 , 茂木文雄 , 佐佐木登 , 石川隆利

IPC分类号： G03D15/00 , G03D3/00

CPC分类号： G03B27/735 , G03B2206/004 , G03B2206/008 , G03D3/065 , G03D13/007 , G03D2203/0625

摘要： 用于图象形成设备的照相处理条件的控制方法，设备具有将照相光敏材料浸泡在照相光敏材料处理溶液中处理该照相光敏材料的功能。方法包括以下步骤：对于已曝光有图象的照相光敏材料，且已将其浸泡在照相形成装置中的照相光敏溶液中并已处理过的照相光敏材料，将至少一个在照相光敏材料上的已显影的图象和照相光敏材料上的除图象之外的部分分析成多种颜色，测量每种颜色的光不透明度和储存每种颜色测量的光不透明度值。

2.

发明授权
控制照相处理条件的方法和控制图象形成设备的方法和装置失效转让

公开(公告)号：CN1119697C

公开(公告)日：2003-08-27

申请号：CN95121898.0

申请日：1995-11-18

申请人： 富士胶片公司

发明人： 松本伸雄 , 寺下隆章 , 茂木文雄 , 佐佐木登 , 石川隆利

IPC分类号： G03B27/73 , G03D3/06

CPC分类号： G03B27/735 , G03B2206/004 , G03B2206/008 , G03D3/065 , G03D13/007 , G03D2203/0625

摘要： 用于图象形成设备的照相处理条件的控制方法，设备具有将照相光敏材料浸泡在照相光敏材料处理溶液中处理该照相光敏材料的功能。方法包括以下步骤：对于已曝光有图象的照相光敏材料，且已将其浸泡在照相形成装置中的照相光敏溶液中并已处理过的照相光敏材料，将至少一个在照相光敏材料上的已显影的图象和照相光敏材料上的除图象之外的部分分析成多种颜色，测量每种颜色的光密度和储存每种颜色测量的光密度值。