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公开(公告)号：CN103008179B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201210348068.X
申请日：2012-09-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法，在行进的片材上涂敷涂敷液之际，能够通过吸嘴比现有技术更为有效地吸引厚涂部，因此，能够使吸引压力比较小，从而消除行进的片材发生抖动等的不良状况。在涂敷装置(10)具有吸嘴(15)，在行进的带状的片材(18)上涂敷涂敷液之际，该吸嘴对形成在涂敷宽度方向两端部且比目标涂敷膜厚d厚的厚涂部(43)进行吸引，吸嘴(15)的涂敷宽度方向上的吸引面宽度Do及吸引口宽度Di在将厚涂部(43)的涂敷宽度方向上的宽度为W及高度为H、片材(18)与吸引面(54)之间的间隙为L时，满足下述的式1及式2。即，W≤Do…(式1)、W*H/L≤Di＜Do?1mm…(式2)。
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公开(公告)号：CN101142033B
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200680008809.2
申请日：2006-03-15
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C9/14 , B05D3/0486 , B05D3/067 , B05D3/12 , B05D2252/02
Abstract: 根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于离子辐射是在将涂膜表面之上1mm内的近表面层中的O2浓度调节到1000ppm或更低之后实施的，因此通过所述离子辐射的辐照，该涂膜可以得到充分固化。换言之，根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于降低了在涂膜表面上的薄近表面层中的O2浓度，因此通过所述离子辐射的辐照，可以将该涂膜充分固化。因此，可以减少在辐照离子辐射时所供给的惰性气体的量，并且可以实现装置的小型化和成本降低。
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公开(公告)号：CN103008179A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210348068.X
申请日：2012-09-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法，在行进的片材上涂敷涂敷液之际，能够通过吸嘴比现有技术更为有效地吸引厚涂部，因此，能够使吸引压力比较小，从而消除行进的片材发生抖动等的不良状况。在涂敷装置(10)具有吸嘴(15)，在行进的带状的片材(18)上涂敷涂敷液之际，该吸嘴对形成在涂敷宽度方向两端部且比目标涂敷膜厚d厚的厚涂部(43)进行吸引，吸嘴(15)的涂敷宽度方向上的吸引面宽度Do及吸引口宽度Di在将厚涂部(43)的涂敷宽度方向上的宽度为W及高度为H、片材(18)与吸引面(54)之间的间隙为L时，满足下述的式1及式2。即，W≤Do…(式1)、W*H/L≤Di＜Do-1mm…(式2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1997460A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200580019811.5
申请日：2005-06-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供了一种抗反射薄膜的制备方法，包括使用缝模将涂布液涂敷到由支撑辊支撑并连续运行的基料上形成至少一层，所述层在干燥状态下的厚度为200nm或更小并且折射率低于所述基料的折射率。该缝模在运行的基料的下游具有边缘，该边缘沿运行的基料方向的平台段长度是30－100μm的，并且在运行的基料上游的缝模的边缘与基料表面之间的间距调整至比在运行的基料下游的缝模的边缘与基料表面之间的间距大30－120μm。
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公开(公告)号：CN1727182A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN200510083399.5
申请日：2005-07-18
CPC classification number: B05C1/0817
Abstract: 一种凹版涂布装置，包括凹印辊，用于连续地将涂布溶液通过将外周表面的下部部分浸入到涂布溶液中而涂布到凹印辊(15)的外周表面上的复写印版，以及用于将涂布在凹印辊的外周表面上的多余涂布溶液部分的刮墨刀片，传输到凹印辊的可变形剥膜支撑件的表面与凹印辊的外周表面相接触以传输和涂布指定量的涂布溶液到可变形剥膜支撑件的表面上，其中所述装置还包括凹印辊的外周表面移出的部分，所述部分从凹印辊的外周表面通过凹印辊的旋转从复写印版移出的侧面上的复写印版延伸，挡板印版具有安置在凹印辊的轴向中心O之上的尖端和位于凹印辊的外周表面上的涂布溶液的多余部分用刮墨刀片刮掉的刮除点之下。
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公开(公告)号：CN100389957C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200510083399.5
申请日：2005-07-18
CPC classification number: B05C1/0817
Abstract: 一种凹版涂布装置，包括凹印辊，用于连续地将涂布溶液通过将外周表面的下部部分浸入到涂布溶液中而涂布到凹印辊(15)的外周表面上的复写印版，以及用于将涂布在凹印辊的外周表面上的多余涂布溶液部分的刮墨刀片，传输到凹印辊的可变形剥膜支撑件的表面与凹印辊的外周表面相接触以传输和涂布指定量的涂布溶液到可变形剥膜支撑件的表面上，其中所述装置还包括凹印辊的外周表面移出的部分，所述部分从凹印辊的外周表面通过凹印辊的旋转从复写印版移出的侧面上的复写印版延伸，挡板印版具有安置在凹印辊的轴向中心O之上的尖端和位于凹印辊的外周表面上的涂布溶液的多余部分用刮墨刀片刮掉的刮除点之下。
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公开(公告)号：CN101142033A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200680008809.2
申请日：2006-03-15
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C9/14 , B05D3/0486 , B05D3/067 , B05D3/12 , B05D2252/02
Abstract: 根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于离子辐射是在将涂膜表面之上1mm内的近表面层中的O2浓度调节到1000ppm或更低之后实施的，因此通过所述离子辐射的辐照，该涂膜可以得到充分固化。换言之，根据本发明的用于固化涂膜的方法和装置，由于降低了在涂膜表面上的薄近表面层中的O2浓度，因此通过所述离子辐射的辐照，可以将该涂膜充分固化。因此，可以减少在辐照离子辐射时所供给的惰性气体的量，并且可以实现装置的小型化和成本降低。
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公开(公告)号：CN1306908A
公开(公告)日：2001-08-08
申请号：CN00130197.7
申请日：2000-10-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B41M5/00
Abstract: 本发明提供可稳定制造设有含无机微粒子和水溶性树脂色料接受层的记录用片材,涂布液的组成、物性和涂布操作条件不受任何制约,可提高涂布面的光泽度,而且涂布面上不产生条纹不匀现象。使用滑动涂布装置(14),在支撑体(12)上涂布形成色料接受层,用干燥装置(26)进行干燥,在形成的色料接受层上,利用另一滑动涂布装置(28)涂布外涂层后,立刻用安装有棒(30A)的漫光·计量装置对涂布面进行漫光·计量处理。
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