公开(公告)号：CN101377930A

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：CN200810213348.3

申请日：2008-08-27

申请人： 富士通株式会社

发明人： 奥村浩祥 ,  山川荣进

IPC分类号： G11B5/84 ,  B24B29/02

CPC分类号： G11B5/8404 ,  B24B7/228 ,  Y10T29/49025 ,  Y10T29/49043 ,  Y10T29/49044 ,  Y10T29/49046 ,  Y10T29/49048 ,  Y10T29/49052

摘要： 本发明涉及用于制造存储介质的方法。根据实施方式的一个方面，一种用于制造存储介质的方法包括以下步骤：提供引导组件及用于形成存储介质的介质板组件；以及设置所述介质板组件及所述引导组件，使得所述介质板组件与所述引导组件彼此靠近，并且所述介质板组件的表面与所述引导组件的表面形成基本上公共的平面。该方法还包括以下步骤：将用于对所述介质板组件进行抛光的抛光组件引导到所述引导组件的表面上；以及将所述引导组件上的所述抛光组件滑动到所述介质板组件上，以对所述介质板组件的表面进行抛光。