公开(公告)号：CN107001681B

公开(公告)日：2018-10-12

申请号：CN201580064915.1

申请日：2015-12-17

Applicant: 尤尼吉可株式会社

Inventor： 山田宗纪 ,  柴田健太 ,  竹内耕 ,  吉野文子 ,  藤冈直史 ,  繁田朗 ,  越后良彰

IPC: C08J9/28

Abstract: 本发明提供一种具有高的孔隙率和小的平均孔径且不会残留致孔剂等的多孔聚酰亚胺膜及其制造方法。本发明的多孔聚酰亚胺膜的特征在于，由包含氧亚烷基单元的聚酰亚胺构成，孔隙率为45体积％～95体积％，平均孔径为10nm～1000nm。

公开(公告)号：CN107001681A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580064915.1

申请日：2015-12-17

Applicant: 尤尼吉可株式会社

Inventor： 山田宗纪 ,  柴田健太 ,  竹内耕 ,  吉野文子 ,  藤冈直史 ,  繁田朗 ,  越后良彰

IPC: C08J9/28

CPC classification number: C08J9/28

Abstract: 本发明提供一种具有高的孔隙率和小的平均孔径且不会残留致孔剂等的多孔聚酰亚胺膜及其制造方法。本发明的多孔聚酰亚胺膜的特征在于，由包含氧亚烷基单元的聚酰亚胺构成，孔隙率为45体积％～95体积％，平均孔径为10nm～1000nm。

公开(公告)号：CN116406396B

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202280007283.5

申请日：2022-01-07

Applicant: 尤尼吉可株式会社

Inventor： 吉野文子 ,  森北达弥 ,  柴田健太 ,  山田宗纪 ,  越后良彰

IPC: C08G18/76 ,  C08G18/34 ,  C08G18/32 ,  C08J5/18 ,  C08L79/08 ,  C08G73/14

Abstract: 本发明提供在成型为膜状时能够得到兼具高弹性模量和高伸长率的PAI膜的PAI。本发明涉及一种聚酰胺酰亚胺(PAI)，使用偏苯三甲酸酐(TMA)和二聚酸(DA)作为酸成分且使用邻联甲苯胺二异氰酸酯(TODI)作为异氰酸酯成分，相对于TMA和DA合计的摩尔数，DA小于30摩尔％，TODI的10～50摩尔％被置换成二苯甲烷二异氰酸酯(MDI)和/或甲苯二异氰酸酯(TDI)。

公开(公告)号：CN116406396A

公开(公告)日：2023-07-07

申请号：CN202280007283.5

申请日：2022-01-07

Applicant: 尤尼吉可株式会社

Inventor： 吉野文子 ,  森北达弥 ,  柴田健太 ,  山田宗纪 ,  越后良彰

IPC: C08G73/14

Abstract: 本发明提供在成型为膜状时能够得到兼具高弹性模量和高伸长率的PAI膜的PAI。本发明涉及一种聚酰胺酰亚胺(PAI)，使用偏苯三甲酸酐(TMA)和二聚酸(DA)作为酸成分且使用邻联甲苯胺二异氰酸酯(TODI)作为异氰酸酯成分，相对于TMA和DA合计的摩尔数，DA小于30摩尔％，TODI的10～50摩尔％被置换成二苯甲烷二异氰酸酯(MDI)和/或甲苯二异氰酸酯(TDI)。

公开(公告)号：CN108352500A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680062963.1

申请日：2016-10-28

Applicant: 尤尼吉可株式会社

Inventor： 柴田健太 ,  竹内耕 ,  吉野文子 ,  松下睦 ,  山田宗纪 ,  繁田朗 ,  越后良彰

IPC: H01M4/13 ,  C08G73/10 ,  H01M4/139 ,  H01M4/62

CPC classification number: C08G73/10 ,  H01M4/13 ,  H01M4/139 ,  H01M4/62

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够形成具有微细的相分离结构且充分降低了离子电阻率的PI被膜的PI溶液。本发明涉及一种蓄电元件电极用聚酰亚胺溶液，其特征在于，是含有对聚酰亚胺的良溶剂和不良溶剂的聚酰亚胺溶液，所述聚酰亚胺在主链中含有氧化烯单元和/或硅氧烷单元。