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公开(公告)号:CN1251809C
公开(公告)日:2006-04-19
申请号:CN01817967.3
申请日:2001-10-16
申请人: 尼奥弗托尼克斯公司
IPC分类号: B05C5/02
CPC分类号: C23C16/402 , B05B7/228 , B05C9/14 , B05D3/06 , B22F1/0018 , C23C16/482 , C23C16/483 , C23C18/1266 , C23C24/10 , C23C26/02
摘要: 本发明涉及使用强烈光束进行光反应沉积,形成直接涂覆在基材表面上的颗粒。部分具体例中,涂覆装置包括非圆形的反应物输入口、形成光路径的光元件、第一种基材、及与装置连接的马达。反应物输入口界定反应物流的路径。光路径贯穿反应区处的反应物流路径与反应区连续的产物流路径。基材贯穿产物流路径。而且,马达操作使第一基材相对于产物流移动。本发明叙述使用光驱动化学反应,有效的产生高度均匀涂覆的各种广泛的方法。
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公开(公告)号:CN1831189A
公开(公告)日:2006-09-13
申请号:CN200610009478.6
申请日:2001-10-16
申请人: 尼奥弗托尼克斯公司
IPC分类号: C23C16/448 , C23C16/52 , B05C5/02
CPC分类号: C23C16/483 , C23C16/402 , C23C16/56
摘要: 本发明涉及使用强烈光束进行光反应沉积,形成直接涂覆在基材表面上的颗粒。部分具体例中,涂覆装置包括非圆形的反应物输入口、形成光路径的光元件、第一种基材、及与装置连接的马达。反应物输入口界定反应物流的路径。光路径贯穿反应区处的反应物流路径与反应区连续的产物流路径。基材贯穿产物流路径。而且,马达操作使第一基材相对于产物流移动。本发明叙述使用光驱动化学反应,有效的产生高度均匀涂覆的各种广泛的方法。
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公开(公告)号:CN1471439A
公开(公告)日:2004-01-28
申请号:CN01817967.3
申请日:2001-10-16
申请人: 尼奥弗托尼克斯公司
IPC分类号: B05C5/02
CPC分类号: C23C16/402 , B05B7/228 , B05C9/14 , B05D3/06 , B22F1/0018 , C23C16/482 , C23C16/483 , C23C18/1266 , C23C24/10 , C23C26/02
摘要: 本发明涉及使用强烈光束进行光反应沉积,形成直接涂覆在基材表面上的颗粒。部分具体例中,涂覆装置包括非圆形的反应物输入口、形成光路径的光元件、第一种基材、及与装置连接的马达。反应物输入口界定反应物流的路径。光路径贯穿反应区处的反应物流路径与反应区连续的产物流路径。基材贯穿产物流路径。而且,马达操作使第一基材相对于产物流移动。本发明叙述使用光驱动化学反应,有效的产生高度均匀涂覆的各种广泛的方法。
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