一种在光纤栅区表面旋转涂覆高分子膜的装置及工艺与应用

    公开(公告)号:CN111694089A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN202010534973.9

    申请日:2020-06-12

    申请人: 山东大学

    IPC分类号: G02B6/02 G01N21/77

    摘要: 本发明涉及一种在光纤栅区表面旋转涂覆高分子膜的装置及工艺与应用,属于光纤光栅的表面处理、微纳加工成型及光纤传感元件制备技术领域。包括:驱动装置、连接装置、模具、干燥装置、平台支架;所述平台支架上依次设置有驱动装置、连接装置、模具,所述平台支架上固定模具的一部分伸入到干燥装置中,所述驱动装置通过连接装置与光纤相连,所述光纤置于模具上,所述驱动装置带动光纤旋转。在光纤栅区表面涂覆得到厚度分布均匀、力学性能良好、可依据涂覆条件控制厚度的气敏高分子膜,从而制得具有优异的气体选择性、高检测精确度及灵敏度的光纤光栅气体传感器。

    一种在光纤栅区表面旋转涂覆高分子膜的装置及工艺与应用

    公开(公告)号:CN111694089B

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN202010534973.9

    申请日:2020-06-12

    申请人: 山东大学

    IPC分类号: G02B6/02 G01N21/77

    摘要: 本发明涉及一种在光纤栅区表面旋转涂覆高分子膜的装置及工艺与应用,属于光纤光栅的表面处理、微纳加工成型及光纤传感元件制备技术领域。包括:驱动装置、连接装置、模具、干燥装置、平台支架;所述平台支架上依次设置有驱动装置、连接装置、模具,所述平台支架上固定模具的一部分伸入到干燥装置中,所述驱动装置通过连接装置与光纤相连,所述光纤置于模具上,所述驱动装置带动光纤旋转。在光纤栅区表面涂覆得到厚度分布均匀、力学性能良好、可依据涂覆条件控制厚度的气敏高分子膜,从而制得具有优异的气体选择性、高检测精确度及灵敏度的光纤光栅气体传感器。