公开(公告)号：CN116716654A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202310693742.6

申请日：2023-06-13

申请人： 常州工学院

发明人： 徐伟龙 ,  张颖星 ,  刘家慧 ,  李水 ,  杨小雨 ,  张燕南 ,  连跃彬

IPC分类号： C30B23/00 ,  C30B29/54

摘要： 本发明公开了一种有机小分子单晶薄膜的制备方法，包括一次近空间升华法制备沉积有有机小分子单晶薄膜粗品的衬底板；以沉积有有机小分子单晶薄膜粗品的衬底板为有机小分子源，利用二次近空间升华法在新的衬底板下表面沉积一层致密的有机小分子单晶薄膜。本发明方法制膜过程不受有机小分子溶质溶解性或真空条件的影响，相较于其他制备有机小分子单晶薄膜的方法成本较低、普适性高；采用二次近空间升华法，避免新的衬底板下表面和有机小分子原料粉末之间的接触，从而在新的衬底板上沉积的有机小分子单晶薄膜更加均匀、致密性好；可以应用在有机小分子成膜技术领域，并对于有机小分子单晶膜的形貌调控提供科学借鉴。