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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108015059A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201711486900.1
申请日：2017-12-29
Applicant: 广东正业科技股份有限公司
IPC: B08B7/00
Abstract: 本发明公开了一种激光加工系统，包括用于输送待加工部件的传送装置和设在待加工部件传送路径上的多个激光发射器，多个激光发射器围绕待加工部件环形阵列，且传送装置和激光发射器均由数控系统控制；使用时，传送装置运送待加工部件移动，多个激光发射器同时工作，通过多个环形阵列的激光发射器将待加工部件划分为多个激光加工区域，每个激光发射器负责清洁待加工部件的一个区域，因此能够一次性完成待加工部件整个外表面的清洁，效率较高，且整体清洁强度均匀，清洁效果好。
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公开(公告)号：CN108038297A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711283012.X
申请日：2017-12-07
Applicant: 广东正业科技股份有限公司
IPC: G06F17/50 , B23K26/362
Abstract: 本发明实施例公开了一种计算激光加工系统工艺参数的方法、装置及系统，包括利用控制变量法及预先确定的、与各个影响因素分别对应的各个初始值确定出与各个影响因素一一对应的各个第一优区间；利用黄金分割法从各个第一优区间中确定出与各个影响因素分别对应的因素水平；依据各个因素水平建立因素水平表和正交表格，并依据因素水平表和正交表格进行初次正交实验得到第一实验结果；依据第一实验结果确定出各个影响因素的性质及与各个影响因素一一对应的各个优水平；依据各个影响因素的性质及各个优水平确定出最优工艺参数组合。本发明实施例提高了因素水平、因素水平表和正交表格的精确度，从而提高了最优工艺参数组合的精确度。
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公开(公告)号：CN108581194A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201810689398.2
申请日：2018-06-28
Applicant: 广东正业科技股份有限公司
CPC classification number: B23K26/16 , B23K26/14 , B23K26/702
Abstract: 本发明公开了一种去除等离子云的方法及设备，其中，设备包括控制主机以及与所述控制主机通过电连接的感应线圈，所述感应线圈位于等离子云正上方，所述控制主机控制所述感应线圈产生用于去除等离子云的交变磁场。本设备不仅可以快速去除激光加工时产生的等离子云，还可以提高液态金属结晶的质量。
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公开(公告)号：CN108038297B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN201711283012.X
申请日：2017-12-07
Applicant: 广东正业科技股份有限公司
IPC: G06F30/20 , B23K26/362
Abstract: 本发明实施例公开了一种计算激光加工系统工艺参数的方法、装置及系统，包括利用控制变量法及预先确定的、与各个影响因素分别对应的各个初始值确定出与各个影响因素一一对应的各个第一优区间；利用黄金分割法从各个第一优区间中确定出与各个影响因素分别对应的因素水平；依据各个因素水平建立因素水平表和正交表格，并依据因素水平表和正交表格进行初次正交实验得到第一实验结果；依据第一实验结果确定出各个影响因素的性质及与各个影响因素一一对应的各个优水平；依据各个影响因素的性质及各个优水平确定出最优工艺参数组合。本发明实施例提高了因素水平、因素水平表和正交表格的精确度，从而提高了最优工艺参数组合的精确度。
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公开(公告)号：CN208083018U
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201721927249.2
申请日：2017-12-29
Applicant: 广东正业科技股份有限公司
IPC: B08B7/00
Abstract: 本实用新型公开了一种激光加工系统，包括用于输送待加工部件的传送装置和设在待加工部件传送路径上的多个激光发射器，多个激光发射器围绕待加工部件环形阵列，且传送装置和激光发射器均由数控系统控制；使用时，传送装置运送待加工部件移动，多个激光发射器同时工作，通过多个环形阵列的激光发射器将待加工部件划分为多个激光加工区域，每个激光发射器负责清洁待加工部件的一个区域，因此能够一次性完成待加工部件整个外表面的清洁，效率较高，且整体清洁强度均匀，清洁效果好。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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