公开(公告)号：CN104695002B

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：CN201410738268.5

申请日：2014-12-05

申请人： 应用材料公司

发明人： 托马斯·H·奥伯莱特纳 ,  卡梅伦·H·劳 ,  贾斯汀·鲍彻

IPC分类号： C25D21/14 ,  C25D7/12

CPC分类号： C25D21/14 ,  G01N27/4166 ,  G01N27/42

摘要： 一种用于电镀半导体晶片和类似基板的处理系统包括电解液贮槽、通过流体管线连接到所述电解液贮槽的至少一个处理腔室以及电解液分析器。所述电解液分析器可具有在所述电解液贮槽中的探测器(比如伏安法探测器)、泵、储存器以及至少一个阀，其中这些部件通过流体管线连接以形成流体回路。所述阀可以是能转换的以提供闭合的流体回路和提供开放的流体回路，在所述闭合的流体回路中电解液循环通过探测器以分析电解液，所述开放的流体回路用以去除已用过的电解液和从贮槽引入新的电解液到流体回路中。已用过的电解液可以排送到排放设施并且不再返回到电解液贮槽，以减小污染的风险。

公开(公告)号：CN104695002A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201410738268.5

申请日：2014-12-05

申请人： 应用材料公司

发明人： 托马斯·H·奥伯莱特纳 ,  卡梅伦·H·劳 ,  贾斯汀·鲍彻

IPC分类号： C25D21/14 ,  C25D7/12

CPC分类号： C25D21/14 ,  G01N27/4166 ,  G01N27/42

摘要： 一种用于电镀半导体晶片和类似基板的处理系统包括电解液贮槽、通过流体管线连接到所述电解液贮槽的至少一个处理腔室以及电解液分析器。所述电解液分析器可具有在所述电解液贮槽中的探测器(比如伏安法探测器)、泵、储存器以及至少一个阀，其中这些部件通过流体管线连接以形成流体回路。所述阀可以是能转换的以提供闭合的流体回路和提供开放的流体回路，在所述闭合的流体回路中电解液循环通过探测器以分析电解液，所述开放的流体回路用以去除已用过的电解液和从贮槽引入新的电解液到流体回路中。已用过的电解液可以排送到排放设施并且不再返回到电解液贮槽，以减小污染的风险。