抗反射光学涂层及其形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118284830A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202280077340.7

    申请日:2022-11-09

    发明人: 黄明煌 金勳 王珏

    IPC分类号: G02B1/115 G02B13/14

    摘要: 根据本公开的至少一个特征,一种形成光学元件的膜的方法,包括:将基本透明的透镜置于反应室中,其中所述透镜限定了弯曲表面;将所述透镜暴露于包括镧或钆之一的第一前体,使得第一前体沉积在透镜的弯曲表面上;将所述弯曲表面上的第一前体暴露于第一氧化剂,使得存在于透镜的弯曲表面上的第一前体与第一氧化剂反应以形成膜的高折射指数层;将所述高折射指数层暴露于第二前体,使得第二前体沉积在高折射指数层上;以及将高折射指数层上的第二前体暴露于第二氧化剂,使得存在于高折射指数层上的第二前体与第二氧化剂反应以形成膜的低折射指数层。