用于测量光场分布的装置和方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119374715A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202310935163.8

    申请日:2023-07-27

    Inventor: 龚爽 吴芳 步扬

    Abstract: 本申请涉及用于测量光场分布的装置和方法。该装置包括:孔径掩模器件,孔径掩模器件被放置在待测光场的空域面或频域面并且具有透光区域,透光区域用于透过待测光场的一部分;光学传输模块,光学传输模块用于对部分待测光场的进行调制以使得其Wigner分布随传播过程在相空间内旋转;以及光强探测模块,光强探测模块用于探测部分待测光场经光学传输模块调制后的二维光强分布。

    用于激光调制的装置以及用于光刻的系统

    公开(公告)号:CN118567187A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202310182692.5

    申请日:2023-02-28

    Abstract: 本申请涉及用于激光调制的装置以及用于光刻的系统。该装置(100)包括:微反射镜组(110),所述微反射镜组(110)包括多个微反射面用于反射激光束,其中至少两个所述微反射面具有不同的倾斜状态;以及驱动机构(120),所述驱动机构(120)用于驱动所述微反射镜组进入运动状态。

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