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公开(公告)号：CN120025552A
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN202311567642.5
申请日：2023-11-22
Applicant: 张江国家实验室
Abstract: 本发明提供一种PS‑PMMA嵌段共聚物及其制备方法、刻蚀方法、制品和用途，所述PS‑PMMA嵌段共聚物包括PS链段、PMMA链段和连接所述PS链段和所述PMMA链段的连接基团，所述连接基团包括席夫碱键。本发明提供的PS‑PMMA嵌段共聚物中PS链段和PMMA链段通过包含席夫碱键的连接基团相连，无需使用紫外曝光和刻蚀设备，仅仅通过短时间简单的有机酸浸泡处理，就可以实现PS相和PMMA相的完全分离，最大化地保留掩膜图案的完整性。
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