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公开(公告)号:CN114746587A
公开(公告)日:2022-07-12
申请号:CN202080083307.6
申请日:2020-12-17
申请人: 德国艾托特克有限两合公司
摘要: 本发明涉及一种降低三价铬电镀浴中铁离子浓度的方法,所述方法包含以下步骤:(i)提供所述三价铬电镀浴,其包含:(a)三价铬离子,和(b)铁离子,(ii)使所述三价铬电镀浴的至少部分经受空气搅拌,以获得所述三价铬电镀浴的至少空气搅拌部分,(iii)使所述三价铬电镀浴的所述空气搅拌部分与离子交换树脂接触,以获得所述三价铬电镀浴的树脂处理部分,以及(iv)将所述三价铬电镀浴的所述树脂处理部分返回到所述三价铬电镀浴,附带条件是‑步骤(i)中提供的所述三价铬电镀浴曾用于或正用于在施加18A/dm2或更大的阴极电流密度的情况下在至少一个基底上电沉积铬层,‑在步骤(iii)之后,所述三价铬电镀浴的所述树脂处理部分中的所述铁离子的浓度低于所述三价铬电镀浴的所述空气搅拌部分中的浓度,以及‑在步骤(iv)之后,基于所述三价铬电镀浴的总体积,所述三价铬电镀浴中的所述铁离子浓度低于50mg/L。
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公开(公告)号:CN117295850A
公开(公告)日:2023-12-26
申请号:CN202280033448.6
申请日:2022-04-29
申请人: 德国艾托特克有限两合公司
发明人: 奥列克桑德拉·叶夫图申科 , 安克·沃尔特 , 西蒙·佩普
IPC分类号: C25D3/06
摘要: 本发明涉及一种用于在衬底上沉积铬或铬合金层的电镀组合物,所述组合物包括(i)三价铬离子,(ii)至少一种用于所述三价铬离子的络合剂,和(iii)至少一种氧化物‑氢氧化物粒子;一种用于沉积各别铬和铬合金层的方法;所述粒子的各别用途;和包括这个铬或铬合金层的各别衬底。
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公开(公告)号:CN116745466A
公开(公告)日:2023-09-12
申请号:CN202180089899.7
申请日:2021-12-17
申请人: 德国艾托特克有限两合公司
发明人: 西蒙·佩普 , 奥列克桑德拉·叶夫图申科 , 安克·沃尔特 , 托尔斯滕·罗斯
IPC分类号: C25D3/10
摘要: 本发明涉及一种用于在衬底上镀铬涂层的电镀组合物,所述组合物包含:(i)六价铬的来源;(ii)一种或多于一种包含季氮的甜菜碱和/或其盐;和(iii)一种或多于一种聚有机硅氧烷。
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