苯乙烯-有机硅氧烷嵌段共聚物的生产装置

    公开(公告)号:CN108239287A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201711334354.X

    申请日:2017-12-14

    发明人: 廖如佴

    IPC分类号: C08G77/442

    CPC分类号: C08G77/442

    摘要: 苯乙烯-有机硅氧烷嵌段共聚物的生产装置,主要包括:混合釜(D101)、混合釜(D102)、反应釜(D103)、过滤器(L101)、混合釜(D104)、过滤器(L102),其中,过滤器(L101)与反应釜(D103)相连接,过滤器(L102)与混合釜(D104)相连接,其中,混合釜(D101)公称容积600-700L。

    纤维素高吸水树脂的生产装置

    公开(公告)号:CN108239231A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201711341016.9

    申请日:2017-12-14

    发明人: 廖如佴

    IPC分类号: C08F251/02 C08F220/06

    CPC分类号: C08F251/02 C08F220/06

    摘要: 纤维素高吸水树脂的生产装置,主要包括:反应釜(D101)、过滤机(L101)、干燥器(L102)、粉碎机(L103)、储罐(F101),其中,过滤机(L101)分别与反应釜(D101)、干燥器(L102)相连接,粉碎机(L103)分别与干燥器(L102)、储罐(F101)相连接,其中,反应釜(D101)公称容积600-660L。

    聚亚烷基多胺型螯合树脂的生产装置

    公开(公告)号:CN108239282A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201711341111.9

    申请日:2017-12-14

    发明人: 廖如佴

    IPC分类号: C08G73/02

    CPC分类号: C08G73/0213 C08G73/0206

    摘要: 聚亚烷基多胺型螯合树脂的生产装置,主要包括:配料釜(D101)、反应釜(D102)、过滤器(M101)、洗涤槽(F101)、抽滤器(L101)、干燥器(L102),其中,反应釜(D102)分别与配料釜(D101)、过滤器(M101)相连接,抽滤器(L101)分别与洗涤槽(F101)、干燥器(L102)相连接,其中,配料釜(D101)公称容积1300-1400L。

    聚乙烯醇肉桂酸酯的生产装置

    公开(公告)号:CN108239196A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201711341113.8

    申请日:2017-12-14

    发明人: 廖如佴

    IPC分类号: C08F16/06 C08F8/14

    CPC分类号: C08F8/14 C08F16/06

    摘要: 聚乙烯醇肉桂酸酯的生产装置,主要包括:反应釜(D101)、酯化釜(D102)、稀释釜(D103)、过滤机(L101)、干燥器(L102)、溶解釜(D104)、过滤机(L103),其中,酯化釜(D102)分别与反应釜(D101)、稀释釜(D103)相连接,干燥器(L102)分别与过滤机(L101)、溶解釜(D104)相连接,其中,酯化釜(D102)公称容积330-360L。

    醌类氧化还原树脂的生产装置

    公开(公告)号:CN108239247A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201711334355.4

    申请日:2017-12-14

    发明人: 廖如佴

    IPC分类号: C08G8/20

    CPC分类号: C08G8/20

    摘要: 醌类氧化还原树脂的生产装置,主要包括:催化反应釜(D101)、粉碎机(L101)、水回流釜(D102)、水冷凝器(C101)、回流器(D103)、冷凝器(C102)、过滤器(M101)、干燥器(L102),其中,粉碎机(L101)分别与催化反应釜(D101)、水回流釜(D102)相连接,过滤器(M101)分别与回流器(D103)、干燥器(L102)相连接,其中,催化反应釜(D101)公称容积600-650L。

    半导体器件紫外正性光刻胶的生产装置

    公开(公告)号:CN108241255A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201711341317.1

    申请日:2017-12-14

    发明人: 廖如佴

    IPC分类号: G03F7/004 G03F7/039

    CPC分类号: G03F7/004 G03F7/039

    摘要: 半导体器件紫外正性光刻胶的生产装置,主要包括:聚合釜(D101)、脱水脱酚塔(E101)、酯化釜(D102)、压滤机(L101)、干燥器(L102)、配胶釜(D103)、压滤机(L103)、百级超净间(L104),其中,压滤机(L101)分别与酯化釜(D102)、干燥器(L102)相连接,压滤机(L103)分别与配胶釜(D103)、百级超净间(L104)相连接,其中,聚合釜(D101)公称容积700-750L。