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公开(公告)号:CN1290824C
公开(公告)日:2006-12-20
申请号:CN200310102874.X
申请日:2003-10-22
Applicant: 拜尔公司
IPC: C07C265/14 , C07C263/10 , C07C263/20
CPC classification number: C07C263/10 , C07C263/20 , Y10S203/11 , C07C265/14
Abstract: 本发明涉及从光气含量小于2%重量的粗制蒸馏原料中纯化甲苯二异氰酸酯的方法,包括a)将光气含量小于2%重量的粗制蒸馏原料分馏以除去溶剂,反应残余物可任选除去,以制得溶剂含量小于20%重量的甲苯二异氰酸酯粗原料,和b)在间壁式蒸馏塔中将溶剂含量小于20%重量的甲苯二异氰酸酯粗原料分成四个产品馏分P1-P4,其中P1是富含气相低沸剂和溶剂的气流,P2是富含低沸剂和溶剂的产品,P3是含有甲苯二异氰酸酯的富含高沸剂的塔底产品,P4是低沸剂含量少的甲苯二异氰酸酯产品流,高沸剂和反应残余物。
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公开(公告)号:CN1496978A
公开(公告)日:2004-05-19
申请号:CN200310102874.X
申请日:2003-10-22
Applicant: 拜尔公司
IPC: C07C265/14 , C07C263/10 , C07C263/20
CPC classification number: C07C263/10 , C07C263/20 , Y10S203/11 , C07C265/14
Abstract: 本发明涉及从光气含量小于2%重量的粗制蒸馏原料中纯化甲苯二异氰酸酯的方法,包括a)将光气含量小于2%重量的粗制蒸馏原料分馏以除去溶剂,反应残余物可任选除去,以制得溶剂含量小于20%重量的甲苯二异氰酸酯粗原料,和b)在间壁式蒸馏塔中将溶剂含量小于20%重量的甲苯二异氰酸酯粗原料分成四个产品馏分P1-P4,其中P1是富含气相低沸剂和溶剂的气流,P2是富含低沸剂和溶剂的产品,P3是含有甲苯二异氰酸酯的富含高沸剂的塔底产品,P4是低沸剂含量少的甲苯二异氰酸酯产品流,高沸剂和反应残余物。
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