公开(公告)号：CN103221229A

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201180055471.7

申请日：2011-11-15

申请人： 拜耳知识产权有限责任公司

发明人： 大和田孝彦 ,  J.比希纳 ,  H.芒德施托克

IPC分类号： B44C1/10 ,  B29C51/14 ,  B29C51/16 ,  C09J5/06 ,  C09J7/02

CPC分类号： B29C69/00 ,  B29C51/002 ,  B29C51/02 ,  B29C51/10 ,  B29C51/14 ,  B29C51/16 ,  B29C2791/006 ,  B29C2791/007 ,  B44C1/105 ,  C08G18/5024 ,  C08G18/792 ,  C08L75/06 ,  C09J7/20 ,  C09J7/29 ,  C09J175/04 ,  C09J2201/61 ,  C09J2475/00 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/254

摘要： 本发明涉及在真空成型中用多层装饰性膜覆盖基底物质的方法，用于这类真空成型方法中所用的二次装饰的多层装饰性膜，在成型后具有优异的粘附性、施工性能和次级物理性能如耐热性和耐水解性的多层装饰性膜，以及这类多层装饰性膜在真空成型方法中的用途。