公开(公告)号：CN100467210C

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200580009675.1

申请日：2005-03-25

Applicant: 揖斐电株式会社

Inventor： 石川茂治 ,  桐山胜之

IPC: B23Q3/08 ,  B24B37/04 ,  B24B41/06 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/30 ,  H01L21/6838 ,  Y10T279/11

Abstract: 本发明的目的是提供一种可实现被吸附体的均匀研磨等的真空卡盘，本发明的真空卡盘的特征在于，具有用于吸附和保持被吸附体的吸附板，该吸附板构成为使由多孔质陶瓷构成的吸附层和致密质层一体化，并且使上述吸附层位于吸附被吸附体的一侧，上述致密质层通过使金属浸渍到上述多孔质陶瓷中而形成，在上述吸附层内形成有1个或多于等于2个的遮断空气的透过的环状间隔层，上述环状间隔层的外缘构成为位于从上述被吸附体的外缘向内侧0.5～15mm的区域内，并且上述环状间隔层的杨氏模量和热膨胀率与上述多孔质陶瓷的杨氏模量和热膨胀率大致相同。

公开(公告)号：CN1938122A

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：CN200580009675.1

申请日：2005-03-25

Applicant: 揖斐电株式会社

Inventor： 石川茂治 ,  桐山胜之

IPC: B23Q3/08 ,  B24B37/04 ,  B24B41/06 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/30 ,  H01L21/6838 ,  Y10T279/11

Abstract: 本发明的目的是提供一种可实现被吸附体的均匀研磨等的真空卡盘，本发明的真空卡盘的特征在于，具有用于吸附和保持被吸附体的吸附板，该吸附板构成为使由多孔质陶瓷构成的吸附层和致密质层一体化，并且使上述吸附层位于吸附被吸附体的一侧，上述致密质层通过使金属浸渍到上述多孔质陶瓷中而形成。