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公开(公告)号:CN107607561A
公开(公告)日:2018-01-19
申请号:CN201710968069.7
申请日:2017-10-17
申请人: 新余钢铁股份有限公司 , 西南交通大学
发明人: 赵和明 , 张鲲 , 王国文 , 杨红来 , 石章海 , 黄珍 , 廖桑桑 , 袁静 , 卞斌 , 董富军 , 陈登国 , 李声延 , 胡书春 , 王婷华 , 张元杰 , 孙乐飞 , 陈晓浪 , 熊文名 , 杨帆 , 刘志芳 , 阳隽觎 , 胡桂英
IPC分类号: G01N23/044
摘要: 本发明公开了一种储氢容器加工件氢缺陷的检测装置,在加热炉的外侧、加热炉、真空室、暗室均设置有输送辊道;真空室的入口通过输送辊道与加热炉的出口连接,出口通过输送辊道与暗室的入口连接,在真空室的一侧通过管道分别与真空泵、氚气瓶连接,另一侧设置有电加热器;在暗室的出口连接冲洗室,暗室内设置有感光底片,与储氢容器加工件表面相贴;在冲洗室,感光底片通过暗盒与感光底片冲洗设备连接,定影后的感光底片通过彩色扫描仪与电脑连接。本发明的优点是通过材料中β射线和X射线在感光底片上的显影成像,检测到氢在被测材料内部缺陷位置滞留严重程度和分布状况,在电脑上直观显示,可以对该位置氢致损伤程度采取应对措施。
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公开(公告)号:CN107589129A
公开(公告)日:2018-01-16
申请号:CN201710968534.7
申请日:2017-10-17
申请人: 新余钢铁股份有限公司 , 西南交通大学
发明人: 赵和明 , 张鲲 , 王国文 , 杨红来 , 石章海 , 黄珍 , 廖桑桑 , 袁静 , 董富军 , 卞斌 , 陈登国 , 李声延 , 王婷华 , 张元杰 , 孙乐飞 , 胡书春 , 熊文名 , 阳隽觎 , 胡桂英 , 陈晓浪 , 杨帆
IPC分类号: G01N23/04
摘要: 本发明公开了一种检测材料表层和表层之下氢缺陷的夹层结构试片,包括感光底片、铝片,其特征在于:在铝片的正反面覆盖有感光底片,边缘用粘结材料或夹子固定。本发明的优点是通过设计夹层结构试片,检测氢在被测材料表层和表层之下的位错、晶界、杂质原子、夹杂物和微空洞等缺陷位置滞留严重程度和滞留分布状况,获得表层和表层之下氢缺陷具体位置的氢缺陷严重程度和分布状况,采取有针对性应对措施,来延长储氢容器的使用寿命,在工业应用中具有现实指导意义。
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公开(公告)号:CN207623255U
公开(公告)日:2018-07-17
申请号:CN201721336909.X
申请日:2017-10-17
申请人: 新余钢铁股份有限公司 , 西南交通大学
发明人: 赵和明 , 张鲲 , 王国文 , 杨红来 , 石章海 , 黄珍 , 廖桑桑 , 袁静 , 董富军 , 卞斌 , 陈登国 , 李声延 , 王婷华 , 张元杰 , 孙乐飞 , 胡书春 , 熊文名 , 阳隽觎 , 胡桂英 , 陈晓浪 , 杨帆
IPC分类号: G01N23/04
摘要: 本实用新型公开了一种检测材料表层和表层之下氢缺陷的夹层结构试片,包括感光底片、铝片,其特征在于:在铝片的正反面覆盖有感光底片,边缘用粘结材料或夹子固定。本实用新型的优点是通过设计夹层结构试片,检测氢在被测材料表层和表层之下的位错、晶界、杂质原子、夹杂物和微空洞等缺陷位置滞留严重程度和滞留分布状况,获得表层和表层之下氢缺陷具体位置的氢缺陷严重程度和分布状况,采取有针对性应对措施,来延长储氢容器的使用寿命,在工业应用中具有现实指导意义。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN207623256U
公开(公告)日:2018-07-17
申请号:CN201721338374.X
申请日:2017-10-17
申请人: 新余钢铁股份有限公司 , 西南交通大学
发明人: 赵和明 , 张鲲 , 王国文 , 杨红来 , 石章海 , 黄珍 , 廖桑桑 , 袁静 , 卞斌 , 董富军 , 陈登国 , 李声延 , 胡书春 , 王婷华 , 张元杰 , 孙乐飞 , 陈晓浪 , 熊文名 , 杨帆 , 刘志芳 , 阳隽觎 , 胡桂英
IPC分类号: G01N23/04
摘要: 本实用新型公开了一种储氢容器加工件氢缺陷的检测装置,在加热炉的外侧、加热炉、真空室、暗室均设置有输送辊道;真空室的入口通过输送辊道与加热炉的出口连接,出口通过输送辊道与暗室的入口连接,在真空室的一侧通过管道分别与真空泵、氚气瓶连接,另一侧设置有电加热器;在暗室的出口连接冲洗室,暗室内设置有感光底片,与储氢容器加工件表面相贴;在冲洗室,感光底片通过暗盒与感光底片冲洗设备连接,定影后的感光底片通过彩色扫描仪与电脑连接。本实用新型的优点是通过材料中β射线和X射线在感光底片上的显影成像,检测到氢在被测材料内部缺陷位置滞留严重程度和分布状况,在电脑上直观显示,可以对该位置氢致损伤程度采取应对措施。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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