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公开(公告)号:CN107286650A
公开(公告)日:2017-10-24
申请号:CN201610226826.9
申请日:2016-04-13
Applicant: 新扬科技股份有限公司
CPC classification number: C08L79/08 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B2250/02 , B32B2307/412 , B32B2307/54 , B32B2307/5825 , B32B2307/734 , C08G73/1039 , C08G73/1071 , C08J5/18 , C08L2201/10 , C08L2203/16 , C08L27/18
Abstract: 本发明的方法包括提供含氟高分子分散液(A)和溶于第一溶剂(C)中的芳香族二胺(B);上述含氟高分子分散液(A)包含含氟高分子(a-1)、第二溶剂(a-2)和分散剂(a-3);混合含氟高分子分散液(A)与芳香族二胺(B),以形成第一混合物中;加入芳香族四羧酸二酐(D)于第一混合物中,以形成聚酰胺酸溶液;对聚酰胺酸溶液进行去溶剂步骤和加热步骤,以制得聚酰亚胺。所制得的聚酰亚胺膜具有低介电常数以及低损耗因子。
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公开(公告)号:CN107286650B
公开(公告)日:2021-04-13
申请号:CN201610226826.9
申请日:2016-04-13
Applicant: 新扬科技股份有限公司
Abstract: 本发明的方法包括提供含氟高分子分散液(A)和溶于第一溶剂(C)中的芳香族二胺(B);上述含氟高分子分散液(A)包含含氟高分子(a‑1)、第二溶剂(a‑2)和分散剂(a‑3);混合含氟高分子分散液(A)与芳香族二胺(B),以形成第一混合物中;加入芳香族四羧酸二酐(D)于第一混合物中,以形成聚酰胺酸溶液;对聚酰胺酸溶液进行去溶剂步骤和加热步骤,以制得聚酰亚胺。所制得的聚酰亚胺膜具有低介电常数以及低损耗因子。
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公开(公告)号:CN211413338U
公开(公告)日:2020-09-04
申请号:CN201922486775.5
申请日:2019-12-31
Applicant: 新扬科技股份有限公司
IPC: B21D33/00
Abstract: 一种挠性金属基板的翘曲限制机构及生产装置,挠性金属基板的翘曲限制机构用于限制由输送机构所输送的挠性金属基板的翘曲,并包括支持单元及翘曲限制单元。翘曲限制单元连接支持单元且设置于挠性金属基板的边缘之上,并配置以限制挠性金属基板的边缘的翘曲。本实用新型的翘曲限制机构通过限制挠性金属基板的翘曲而可提升产品良率。此外,本实用新型的翘曲限制机构直接应用于输送机构,使得翘曲限制机构可整合于现有的机台上,进而能兼顾大量生产与高产品良率。
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