公开(公告)号：CN101903560B

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN200880122197.9

申请日：2008-12-19

Applicant: 无穷动力解决方案股份有限公司

Inventor： B·纽德克尔 ,  J·维特克瑞

IPC: C23C16/30 ,  H01M10/38

CPC classification number: C23C14/06 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/22 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/352 ,  H01M2/145 ,  H01M6/188 ,  H01M6/40 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0562 ,  H01M10/058 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54

Abstract: 本发明提出了一种用于薄膜电解质的替代性溅射靶组合物或结构，从而使得溅射靶材料体系具有足够的电导率，可以使用(脉冲)DC靶能量进行溅射沉积。在由电导性溅射靶材料系统进行反应性溅射沉积之后，所述电解质膜材料获得了它们所需的电绝缘和可传导锂离子的性质。

公开(公告)号：CN101903560A

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN200880122197.9

申请日：2008-12-19

Applicant: 无穷动力解决方案股份有限公司

Inventor： B·纽德克尔 ,  J·维特克瑞

IPC: C23C16/30 ,  H01M10/38

CPC classification number: C23C14/06 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/22 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/352 ,  H01M2/145 ,  H01M6/188 ,  H01M6/40 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0562 ,  H01M10/058 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54

Abstract: 本发明提出了一种用于薄膜电解质的替代性溅射靶组合物或结构，从而使得溅射靶材料体系具有足够的电导率，可以使用(脉冲)DC靶能量进行溅射沉积。在由电导性溅射靶材料系统进行反应性溅射沉积之后，所述电解质膜材料获得了它们所需的电绝缘和可传导锂离子的性质。