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公开(公告)号：CN120008490A
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202510277456.0
申请日：2025-03-10
Applicant: 无锡市金义博仪器科技有限公司
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明公开了一种光谱仪光学薄膜厚度检测系统及方法，涉及薄膜厚度检测技术领域，解决了现有技术中，无法结合光学薄膜所在光学器件的运行状态进行厚度测量检测，以至于无法确定是否执行复检的技术问题，具体为光学器件影响分析单元根据实时光学薄膜测量厚度与光学器件运行影响进行同步分析，采集适配检测信息和非适配检测信息，根据信息比对推断当前检测主体的厚度检测是否存在异常；厚度检测误差分析单元对检测主体的厚度检测过程进行误差分析，采集环境参数和发射参数，根据参数分析推断检测环境是否存在风险；对检测主体的厚度检测过程进行误差分析，推断当前厚度检测是否存在影响，以便于提高厚度检测数值偏差的原因排查效率。
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