公开(公告)号：CN115852455A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202211603385.1

申请日：2022-12-13

申请人： 无锡纳斯凯半导体科技有限公司

发明人： 王乃奎

IPC分类号： C25D11/32

摘要： 本发明公开了一种用于半导体基片反应室的微弧氧化处理装置，涉及到氧化处理设备领域，包括进料仓，进料仓的顶端开设有方口，进料仓的内部固定连接有固定斜板，进料仓的内部设置有转动组件，转动组件包括弧形板，弧形板设置有多个，弧形板转动连接在进料仓的内部。本发明设置了转动组件，利用转动组件的设计，弧形板与第一转动轴，在第一电机的作用下，带动第一转动轴进行转动，在弧形板的带动下，有助于半导体基片单个有序的进行移动，便于半导体基片通过进料仓移动至移动板的顶部，当移动板的顶部盛放够半导体基片后，第一电机停止转动，而限位弧片限制住齿轮进行转动，避免半导体基片在进行运输时，发生碰撞的情况。

公开(公告)号：CN220575464U

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202321672856.4

申请日：2023-06-29

申请人： 无锡纳斯凯半导体科技有限公司

发明人： 王乃奎

IPC分类号： B24B9/06 ,  B24B27/02 ,  B24B41/06 ,  B24B55/06 ,  B24B47/12

摘要： 本实用新型涉及一种硅环表面高精倾斜度的加工设备，包括加工台，所述加工台上设置有固定调节机构，所述加工台上设置有除尘机构，所述固定调节机构包括固定安装于加工台顶部的加工罩，所述加工台的底部固定安装有抱闸电机，所述抱闸电机的输出轴固定安装有加工座，所述加工座的底部固定安装有数量为两个的限位块，所述加工座的内部固定安装有固定块，所述固定块的两侧均固定安装有限位杆。该硅环表面高精倾斜度的加工设备，通过设置的固定调节机构，在对硅环进行加工打磨时，通过加工台上各结构之间的相互配合，可对硅环进行旋转固定，配合打磨组件可实现对硅环的全方位旋转打磨，提升对硅环的打磨质量，提升打磨效率。