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公开(公告)号：CN107479325A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710769975.4
申请日：2017-08-31
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002
Abstract: 本发明公开了一种负压式纳米压印设备，包括支撑座和升降台，升降台的四周具有多根内部中空的升降柱固定于支撑座上，升降台可以沿升降柱移动，所述支撑座上还设有防滑硅胶垫和样品台，升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯。所述升降柱上端开口，升降柱的下端设置于支撑座的空腔底部，下端密闭，并且升降柱位于支撑座空腔内的部分侧面设有气孔，至少一个升降柱内还设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。采用本发明的设计，升降台下压过程，气流能够在负压阀流通，使得气压正常，不会影响防滑硅胶垫和样品台，上抬过程，体积变大，气流不流通，在空腔内形成负压，能够防止硅胶垫滑动，结构简单，勿需采用真空泵。
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公开(公告)号：CN107418080A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710769510.9
申请日：2017-08-31
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
CPC classification number: C08K13/02 , C08J5/18 , C08J2325/06 , C08K3/26 , C08K3/36 , C08K5/09 , C08K2003/262 , C08K2003/265 , C08K2201/005 , C08L25/06
Abstract: 本发明公开了一种抗拉伸型纳米抗压膜，按重量份数包括：聚苯乙烯80～150份，三乙醇胺20～40份，苯甲酸甲酯10～30份，季戊四醇硬脂酸酯8～16份，高岭土5～15份，碳酸钙15～20份，二氧化硅8～15份，草木灰2～5份和硬脂酸1～3份。采用本发明的配比，在现有技术的基础上，改善配比并增加草木灰和硬脂酸的设计，与高岭土配合，能够提高本发明分子之间的作用力，使得本发明粘结力更加，抗拉伸能力更强。
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公开(公告)号：CN107357132A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710755747.1
申请日：2017-08-29
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002
Abstract: 本发明公开了一种纳米压印机限位机构，包括支撑平台、下压平台、模型压头和液压升降缸，所述支撑平台上固定设置有限位平台，所述限位平台为空心结构，所述限位平台上分别设置有横向的第一开口和纵向的第二开口，所述限位平台内设置有伸缩电机，所述伸缩电机具备四个伸缩轴，所述第一开口和第二开口的两端均设置有限位板，所述四个限位板通过连接条穿过第一开口和第二开口分别连接在四个伸缩轴上。本发明能够对支撑平台上的待压印的产品的位置进行精确化的限位固定，从而大幅提升了产品在支撑平台上的位置精确度，因此大幅提升了压印的位置精确度，产品的压印质量得到了提升和保障。
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公开(公告)号：CN107688324A
公开(公告)日：2018-02-13
申请号：CN201710771272.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
IPC: G05B19/402 , G03F7/00
CPC classification number: G05B19/402 , G03F7/0002 , G05B2219/37404
Abstract: 本发明公开了一种纳米压印机控制机构，包括支撑平台、下压平台、模型压头和液压升降缸，所述支撑平台的四个侧端均设置有伸缩机，所述伸缩机的伸缩杆连接着限位板，所述限位板用于对支撑平台上的产品进行限位。本发明与现有技术相比，通过对伸缩机中四个伸缩杆的位置参数的分别设定，使得四个限位板能够分别移动至指定参数位置，从而能够对支撑平台上的待压印的产品的位置进行精确化的限位固定，从而大幅提升了产品在支撑平台上的位置精确度，因此大幅提升了压印的位置精确度，产品的压印质量得到了提升和保障。
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公开(公告)号：CN107577115A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201710728488.3
申请日：2017-08-23
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种改进型纳米压印机，包括机体以及分别连接着机体的冷却水循环机、空气压缩机和真空泵，所述机体内设置有紫外线感应器和紫外线吸收器，所述机体外壁上分别设置有显示器和控制器，所述显示器连接着紫外线感应器用于显示机体内实时紫外线强度，所述控制器连接着紫外线吸收器。本发明与现有技术相比，工作人员能够获取到机体内的紫外线实时强度，并且通过操作紫外线吸收器迅速降低紫外线强度，这样不但保证了工作人员接触到的紫外线强度不会危害到自身的身体健康，而且紫外线强度的快速下降也提升了压印作业的延续性，提高了工作效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107556634A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710769507.7
申请日：2017-08-31
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种环保型纳米抗压膜，按重量份数包括：聚苯乙烯80～150份，三乙醇胺20～40份，环氧树脂40～60份，高岭土5～15份，碳酸钙15～20份，二氧化硅8～15份和氧化铝8～15份。采用本发明的配比，用环氧树脂替代化学复合增塑膜，使得本发明所制造的产品更加节能环保，并且环氧树脂和聚苯乙烯配合能够达到现有水平相同的抗压性效果，同时，在二氧化硅的基础上，减少二氧化硅用量，增加氧化铝与其配合，能够更好的屏蔽紫外线辐射。
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公开(公告)号：CN107501774A
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201710769998.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
CPC classification number: C08L25/06 , C08J5/18 , C08J2325/06 , C08J2463/00 , C08K2003/2296 , C08K2003/265 , C08K2201/003 , C08L2203/16 , C08L63/00 , C08K13/02 , C08K3/346 , C08K3/26 , C08K3/36 , C08K3/22
Abstract: 本发明公开了一种耐磨型纳米抗压膜，按重量份数包括：聚苯乙烯80～150份，三乙醇胺20～40份，环氧树脂40～60份，陶瓷粉20～30份，高岭土5～15份，碳酸钙15～20份，二氧化硅8～15份和氧化锌8～15份。采用本发明的配比，用环氧树脂替代化学复合增塑膜，使得本发明所制造的产品更加节能环保，并且环氧树脂和聚苯乙烯配合能够达到现有水平相同的抗压性效果，同时，本发明创造性的增加了陶瓷粉成分，陶瓷粉在其他成分搅拌均匀并静置后加入，大大增加了本发明制造产品的耐磨性，并且将氧化铝替换为氧化锌，使得本发明反应更加迅速，制造过程缩短，并且同时能够拥有和氧化铝一样的防紫外辐射功能。
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公开(公告)号：CN107479323A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710728496.8
申请日：2017-08-23
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002
Abstract: 本发明公开了一种紫外线可控纳米压印机，包括机体以及分别连接着机体的冷却水循环机、空气压缩机和真空泵，所述机体上设置有压印门，所述压印门上设置有智能感应锁，所述机体内设置有用于感应到机体内紫外线强度的紫外线感应器，所述紫外线感应器连接着控制处理器，所述控制处理器连接着智能感应锁。本发明与现有技术相比，机体内的紫外线强度降到安全值下时，压印门才会自动打开，这样保证了工作人员打开压印门后面对的紫外线强度不会危害到自身的身体健康。
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公开(公告)号：CN107474413A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710728494.9
申请日：2017-08-23
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
CPC classification number: C08L25/06 , C08K2003/265 , C08K2201/011 , C08L2201/14 , C08L2203/16 , C08L2205/035 , C08L27/06 , C08L23/16 , C08L83/04 , C08K13/02 , C08K3/34 , C08K3/26 , C08K5/103 , C08K3/36
Abstract: 本发明公开了一种优化型纳米抗压膜，按重量份数由以下组份组成：聚氯乙烯粉末6-10份、聚烯烃蜡3-8份、滑石粉5-10份、碳酸钙2-5份、季戊四醇硬脂酸酯2-5份、纳米二氧化硅10-15份、聚苯乙烯20-30份、粘结剂3-5份，增塑剂3-5份。本发明与现有技术相比，通过纳米二氧化硅的加入提升了纳米抗压膜的气密性能，粘结剂的加入使得纳米抗压膜的结构强度更好，从而提升了纳米抗压膜的抗压性能。本发明与现有技术相比，通过纳米二氧化硅的加入提升了纳米抗压膜的气密性能，粘结剂的加入使得纳米抗压膜的结构强度更好，从而提升了纳米抗压膜的抗压性能，并且优化了纳米抗压膜的物理机械性能。
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公开(公告)号：CN107346093A
公开(公告)日：2017-11-14
申请号：CN201710755459.6
申请日：2017-08-29
Applicant: 无锡英普林纳米科技有限公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002
Abstract: 本发明公开了一种纳米压印机卡位机构，包括支撑平台、下压平台、模型压头和液压升降缸，所述支撑平台上固定设置有限位平台，所述限位平台为空心结构，所述限位平台上分别设置有横向的第一开口和纵向的第二开口，所述限位平台内设置有伸缩电机，所述限位平台具备四个伸缩轴，所述四个伸缩轴上均设置有限位杆，所述四个限位杆分别穿过第一开口和第二开口朝着限位平台上方延伸。本发明与现有技术相比，通过对伸缩电机中四个伸缩轴的位置参数的分别设定，使得能够对支撑平台上的待压印的产品的位置进行精确化的限位固定，从而大幅提升了产品在支撑平台上的位置精确度，因此大幅提升了压印的位置精确度，产品的压印质量得到了提升和保障。
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