一种硅片加工EDI水循环系统

    公开(公告)号:CN206886767U

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201720576461.2

    申请日:2017-05-23

    发明人: 高成义

    IPC分类号: C02F1/469

    摘要: 一种硅片加工EDI水循环系统,包括经水管依次连接的依水流方向设置的二级RO水箱、EDI装置、终端水箱和清洗机台的清洗通路,还包括控制装置;所述终端水箱与二级RO水箱和EDI装置之间的水管连通形成内循环通路,所述二级RO水箱、EDI装置、终端水箱和清洗机台之间的水管及内循环通路上设置有电动阀和/或水泵,所述终端水箱内设置有液位计,所述液位计、电动阀和水泵与控制装置连接,所述控制装置用于在终端水箱高于控制液位时控制开启内循环通路,同时停止二级RO水箱内水的泵入,在终端水箱低于控制液位时控制关闭内循环通路并开启清洗通路。通过终端水箱液位控制,使纯水在系统内循环,减少纯水与空气的接触时间及与二氧化碳的反应,提升电阻率。

    一种气浮水处理装置
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204675959U

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201520280862.4

    申请日:2015-05-04

    IPC分类号: C02F9/14

    摘要: 本实用新型公布了一种气浮水处理装置,包括气浮机和水解池;所述水解池设置在气浮机后端,用于处理气浮机出水;所述气浮机包括溶气泵、溶气罐和释放器,其特征在于:所述气浮机的溶气泵进水管上设置有三通,所述三通连接两个进水口,其中一个进水口设置在气浮机的下部,另一个进水口设置在水解池的液面以下,上清液的位置。本实用新型将气浮机后端的水解池上清液作为气浮机溶气水,减少溶气水中颗粒物含量,提高溶气效果异常,进而提升气浮处理效果,减少气浮清理周期,降低操作维护人工,提升出水水质指标。另外,本实用新型可以在现有气浮设备上进行改造,降低了改造的成本。